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臺灣cvd化學(xué)氣相沉積詢問報(bào)價(jià)

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發(fā)布時(shí)間:2020-08-09 06:02  






帶鋼鍍膜質(zhì)量好,能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜,鍍膜純度高,耐蝕性和附著力好。鋼帶鍍膜前可經(jīng)電子束預(yù)熱表面活化,鍍膜純度高,沒有中間硬脆的合金層,可以一次沖壓成型,甚至可以卷成直經(jīng)很小的管而不脫落鍍層。

工藝靈活,改變品種方便,可以根據(jù)產(chǎn)品要求靈活地實(shí)現(xiàn)在鋼帶上鍍單面、雙面、單層、多層,可以同時(shí)鍍兩種材料達(dá)到鍍混合膜。鍍膜厚度易于控制,而且可以鍍制超薄膜。





鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變材料表面的反射和透射特性。氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3,氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。光學(xué)鍍膜是在光學(xué)干涉原理,在可見光和紅外線波段范圍內(nèi),使反射率在78-98%之間,以達(dá)到透光率,光學(xué)鍍膜技術(shù)一直是光學(xué)領(lǐng)域中不可忽略的重要基礎(chǔ)技術(shù)。


在我們的日常生活中,光學(xué)鍍膜隨處可見,如平時(shí)戴的眼鏡、數(shù)碼相機(jī)、各式家電用品,或者是上的防偽技術(shù),領(lǐng)域的各種設(shè)備、軍事領(lǐng)域的等等。普遍的是在太陽光下看手機(jī)屏的字,由于反射光透不強(qiáng),屏幕模糊,這需要屏幕的光學(xué)鍍膜來達(dá)到透射清晰效果。




      派瑞林納米涂層式一種高分子熱可塑性聚合體,由單體對二在真空狀態(tài)下均勻分布在被涂裝物的縫隙和表層然后聚合。運(yùn)用氣相沉積的處理技術(shù),可以于物體表面均勻coating形成膜層,薄膜的厚度可在1微米至 50微米的范圍內(nèi)任意調(diào)整。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合,而顆粒是指能夠一個(gè)一個(gè)計(jì)數(shù)的微小物質(zhì)。由于在真空狀態(tài)下操作蒸氣無孔不入效率,可形成無膜層, 并地控制膜層厚度,且各處厚度均勻一致,使派瑞林((Parylene Coating)涂層的覆被特性遠(yuǎn)優(yōu)于Epoxy(電泳)、Spary(噴涂)、Dipper(含浸)等涂裝方式。




真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,即物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級階段,在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠(yuǎn)不能與熱浸鍍、電鍍相比。制備硬質(zhì)反應(yīng)膜大多以物理氣相沉積方法制得,它利用某種物理過程,如物質(zhì)的熱蒸發(fā),或受到離子轟擊時(shí)物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象,實(shí)現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。




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