真空電鍍原理

  電鍍廠需要一個向電鍍槽供電的低壓大電流電源以及由電鍍液、待鍍零件(陰極)和陽極構(gòu)成的電解裝置。其中電鍍液成分視鍍層不同而不同，但均含有提供金屬離子的主鹽，能絡(luò)合主鹽中金屬離子形成絡(luò)合物的絡(luò)合劑，用于穩(wěn)定溶液酸堿度的緩沖劑，陽極活化劑和特殊添加物(如光亮劑、晶粒細(xì)化劑、整平劑、潤濕劑、應(yīng)力消除劑和抑霧劑等)。

電鍍的含義：

  鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的金屬制品做陰極，鍍層金屬的陽離子在金屬表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質(zhì)或尺寸.電鍍能增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導(dǎo)電性、潤滑性、耐熱性、和表面美觀。

鍍層厚度計算常用單位

  1、微米nm換算0.001毫米(mm)=1微米(μm)即千分之一毫米

  2、微英寸uin就是平時說的u"（讀mai）換算1um=39.4uin≈40uin

  3、毫英寸mil就是平時說的密耳。換算1mil=25.4um

電鍍電源的選用是否正確，直接關(guān)系到鍍層質(zhì)量、鍍槽生產(chǎn)能力、能源的消耗及投資的效益。直流電機因耗能大、效率低，已基本淘汰;硅整流電源價格低，但效率也不理想。為了進(jìn)一步提高整流設(shè)備效率，縮小整機體積和減輕重量，近生產(chǎn)出了高頻開關(guān)電源設(shè)備。盡管開關(guān)電源設(shè)備的價格較高，但很快能收回投資，并能提高電鍍質(zhì)量。因此，加工大批量單一產(chǎn)品時，選用可控硅電源較好;加工負(fù)載經(jīng)常有變化的多品種產(chǎn)品時，選用開關(guān)電源可取得較好的節(jié)能效果。

電鍍廠操作說明：

1.請在過濾機出口處加裝塑膠凡而

2.使用前先打開排氣閥

3.關(guān)緊出口凡而后啟動電源開關(guān)馬達(dá)開始運轉(zhuǎn)，使氣體及液體經(jīng)由排入加藥槽。

4.打開循環(huán)閥，再打開加藥閥，使藥液在加藥槽內(nèi)產(chǎn)生固定水位后加入助濾粉，循環(huán)3分鐘后再加入活性碳粉再循環(huán)3分鐘，此時排出的液體同樣沒有活性碳粉排出即可。

5.利用檢測口閥，直接取樣檢查液體清潔程度及過濾效果。

6.打開出口凡而后，關(guān)緊循環(huán)閥，再關(guān)緊排氣閥，后看加藥槽內(nèi)藥液剩下少許再關(guān)緊加藥閥，完成加藥過程度使過濾機正常過濾。

  PVD真空電鍍加工K金色膜層具有成膜速度高，膜層粘附性好，附著牢固等特點，被廣泛應(yīng)用于各個五金行業(yè)。

PVD鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統(tǒng)一名稱。所以對于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。