一六 熒光測(cè)厚儀 十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì) 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物

一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素   厚度檢出限:0.005um

工業(yè)X射線鍍層厚度分析儀以其快速、無損、現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量等優(yōu)點(diǎn)，已在冶金、建材、地質(zhì)、環(huán)保、商檢、考古、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域得到迅速推廣和應(yīng)用。近幾年來X射線熒光儀已在工業(yè)鍍層及涂層厚度測(cè)量中應(yīng)用越來越廣泛。三鍍層：Au/Ni/Cu/ABS，Au/Ag/Ni/Cu,Au/Ni/Cu/Fe,等等一、功能1。眾所周知，產(chǎn)品和金屬元件表面鍍層或防腐層厚度是與產(chǎn)品質(zhì)量與性能相關(guān)的重要指標(biāo)。實(shí)驗(yàn)表明使用同位素X射線熒光分析方法，能夠滿足工業(yè)鍍層和涂層厚度的分析要求，并且具有無損、在線、簡(jiǎn)便快速、可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制等特點(diǎn)。

江蘇一六儀器   X熒光光譜測(cè)厚儀 特點(diǎn)

快速：1分鐘就可以測(cè)定樣品鍍層的厚度，并達(dá)到測(cè)量精度要求。

方便：X熒光光譜儀部分機(jī)型采用進(jìn)口國(guó)際上先進(jìn)的電制冷半導(dǎo)體探測(cè)器，能量分辨率更優(yōu)于135eV，測(cè)試精度更高。并且不用液氮制冷，不用定期補(bǔ)充液氮，操作使用更加方便，并且運(yùn)行成本比同類的其他產(chǎn)品更低。

無損：測(cè)試前后，樣品無任何形式的變化。

直觀：實(shí)時(shí)譜圖，可直觀顯示元素含量。

測(cè)試范圍廣：X熒光光譜儀，是一種物理分析方法，其分析與樣品的化學(xué)結(jié)合狀態(tài)無關(guān)。對(duì)在化學(xué)性質(zhì)上屬同一族的元素也能進(jìn)行分析,抽真空可以測(cè)試從Na到U。

可靠性高：由于測(cè)試過程無人為干擾因素，儀器自身分析精度、重復(fù)性與穩(wěn)定性很高。所以，其測(cè)量的可靠性更高。

滿足不同需求：測(cè)試軟件為WINDOWS操作系統(tǒng)軟件，操作方便、功能強(qiáng)大，軟件可監(jiān)控儀器狀態(tài)，設(shè)定儀器參數(shù)，并就有多種先進(jìn)的分析方法，工作曲線制作方法靈活多樣，方便滿足不同客戶不同樣品的測(cè)試需要。

性價(jià)比高：相比化學(xué)分析類儀器，X熒光光譜儀在總體使用成本上有優(yōu)勢(shì)的，可以讓更多的企業(yè)和廠家接受。

簡(jiǎn)易：對(duì)人員技術(shù)要求較低，操作簡(jiǎn)單方便,并且維護(hù)簡(jiǎn)單方便。

江蘇一六儀器   X射線熒光光譜儀XTU/X-RAY系列 

技術(shù)參數(shù)

X射線裝置：W靶微聚焦加強(qiáng)型射線管

準(zhǔn)直器φ 0.05 mm  ；φ 0.1 mm；φ 0.2 mm；φ 0.5 mm； 準(zhǔn)直器任意選擇或者任意切換

近測(cè)距光斑擴(kuò)散度：9%

測(cè)量距離：具有距離補(bǔ)償功能，可改變測(cè)量距離，能測(cè)量凹凸異型樣品，變焦距離0-30mm(特殊要求可以升級(jí)到90mm)

樣品觀察：1/2.5彩色CCD，變焦功能對(duì)焦方式高敏感鏡頭，手動(dòng)對(duì)焦

放大倍數(shù)：光學(xué)38-46X，數(shù)字放大40-200倍

隨機(jī)標(biāo)準(zhǔn)片：十二元素片、Ni/Fe 5um、Au/Ni/Cu 0.1um/2um 

其它附件：聯(lián)想電腦一套、噴墨打印機(jī)、附件箱