由于天然含量甚少，碳化硅主要多為人造。常見的方法是將石英砂與焦炭混合，利用其中的二氧化硅和石油焦，加入NaCl和木屑，置入電爐中，加熱到2000°C左右高溫，經(jīng)過各種化學工藝流程后得到碳化硅微粉。碳化硅(SiC)因其很大的硬度而成為一種重要的磨料，但其應用范圍卻超過一般的磨料。碳化硅陶瓷的發(fā)展過程十分復雜,在陶瓷球、磨料磨具、碳化硅陶瓷基復合材料以及其他方面的應用。它所具有的耐高溫性、導熱性而成為隧道窯或梭式窯的窯具材料之一，它所具有的導電性使其成為一種重要的電加熱元件等。

碳化硅制品可以分為很多類，根據(jù)不同的使用環(huán)境，分為不同的種類。一般使用到機械上比較多。例如使用到機械密封件上，可以稱為碳化硅密封環(huán)，可以分為靜環(huán)、動環(huán)、平環(huán)等。也可以根據(jù)客戶的特別要求，制作出各種形狀的碳化硅制品，例如碳化硅異形件，碳化硅板，碳化硅環(huán)等。新料法是通過把新料裝入電阻爐經(jīng)反應冶煉所制成的碳化硅產(chǎn)品，而熔燒料法把新料先裝于電阻爐的底部及兩側進行焙燒，除去焦炭中揮發(fā)分并燒結成較大顆粒。碳化硅的制品之一的碳化硅陶瓷具有的高硬度、高耐腐蝕性以及較高的高溫強度等特點，這使得碳化硅陶瓷得到了廣泛的應用。

生長在石墨坩堝內(nèi)部的空心圓柱體中的碳化硅晶片是在碳管爐內(nèi)加熱到2500℃以上制成的，溫度的安排是要使得碳化硅圓柱體的中心溫度較外部為低。向里面擴散的碳化硅蒸汽因而變得過飽和，并且在圓柱體的中心冷凝下來形成單晶體。其復合鍍層顯微硬度大幅度提高，耐磨性提高3-5倍，使用壽命提高2-4倍，鍍層與基體的結合力提高30-40％，覆蓋能力強，鍍層均勻，平滑，細致。可以在工作氣筑中引入某種雜質以改變生長的晶體的成分。

由此可見，碳化硅材料的應用還是需要我們多加注意的。我們是專業(yè)的碳化硅生產(chǎn)廠家，大家有需要就聯(lián)系我們吧。

碳化硅晶體作為信息功能材料器件。碳化硅晶體為第三代半導體材料，其優(yōu)良的物理、化學性能在照明、信息科技、光儲能、航天、勘探等領域發(fā)展?jié)摿薮?。的綠碳化硅微粉主要應用于太陽能光伏、半導體等的線切割。綠碳化硅適宜磨削硬質合金和硬脆金屬和非金屬材料，如銅、黃銅、鋁和鎂等有色金屬和陶瓷等無機非金屬材料等。一般來講：含量在95%——98%為一級品，含量在98%以上的為特級品、含量在80%——94%為二級品、含量在70%左右為三級品，碳化硅的含量及純度越高其價值也就越大。同時也適用于玉器寶石、玻璃、玉器、水晶工藝品等的拋光。