要想鍍出堅固的鈦層，首先要有好的設備。因為在鍍膜過程中，真空系統(tǒng)必需要工作穩(wěn)定，爐體保壓要好，如果在鍍膜過程中有雜氣摻入，顏色就會不理想，嚴重的還會脫鈦。好的設備弧源離化率高，形成的離子密度大，大顆粒少，鍍出的膜層光滑度高，磨擦系數(shù)小，堅固不脫落，差的設備離化率低，鍍出來的膜層粗糙沒光澤，容易刮花脫落。

在高真空并且高溫的鍍鈦環(huán)境中，加入不同的氣體能鍍出不同的顏色。如加入N2，鍍出來的顏色是金色；加入C2H2，顏色就是黑色；加入O2，顏色就會是彩色和藍色；如加入N2和C2H2，顏色就會是玫瑰金色。在鍍鈦過程中，使用的物質是鈦和高純氣體，都是綠色環(huán)保的材料，由于是在高溫真空環(huán)境中生產(chǎn)，不會產(chǎn)生任何有害物質，所以鍍出來的產(chǎn)品是非常安全環(huán)保的，可以通過各種安全測試。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

在信息存儲領域中薄膜材料作為信息記錄于存儲介質，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄，可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術。13.在傳感器方面在傳感器中，多采用那些電氣性質相對于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材料。此外，其中，大多數(shù)利用的是半導體的表面、界面的性質，需要盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低價格制作，因此，采用薄膜的情況很多。14.在集成電路制造中晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及其合金）等，多是采用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發(fā)金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術?？梢?，氣相沉積是制備集成電路的核心技術之一。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

硝材化學穩(wěn)定性差，基片在前加工過程中流轉過程中，表面已經(jīng)受到腐蝕，形成了腐蝕層或水解層（也許是局部的、極薄的）。膜層鍍在腐蝕層或水解層上其吸附就差，膜牢固度不良。

基片表面有臟污、油斑、灰點、口水點等，局部膜層附著不良，造成局部膜牢固度不良。

改善對策：

㈠加強去油去污處理，如果是超聲波清洗，應重點考慮去油功能，并保證去油溶液的有效性；如若是手擦，可考慮先用碳酸鈣粉擦拭后再清擦。加強鍍前烘烤，條件許可，基片溫度能達到300℃以上更好，恒溫20分鐘以上，盡可能使基片表面的水qi、油汽揮發(fā)。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制