因此需要合理設(shè)計(jì)鍍膜設(shè)備的抽氣系統(tǒng)，保證膜材蒸汽分子到達(dá)基片表面的速率高于殘余氣體分子到達(dá)的速率，以減少殘余氣體分子對(duì)膜層的撞擊和污染，提高膜層的純度。此外，在10-4Pa時(shí)真空室內(nèi)殘余氣體的主要組分為水蒸氣(約占90%以上)，水氣與金屬膜層或蒸發(fā)源均會(huì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成氧化物而釋放出氫氣。因此，為了減少殘余氣體中的水分，可以提高真空室內(nèi)的溫度，使水分解，也是提高膜層質(zhì)量的一種有效辦法。還應(yīng)注意蒸發(fā)源在高溫下的放氣。在蒸發(fā)源通電加熱之前，可先用擋板擋住基片，然后對(duì)膜材加熱去氣。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

在ji小空間的電流密度極高，弧斑尺寸ji小，估計(jì)約為1μm～100μm，電流密度高達(dá)l05A／cm2～107A／cm2。每個(gè)弧斑存在極短時(shí)間，爆發(fā)性地蒸發(fā)離化陰極改正點(diǎn)處的鍍料，蒸發(fā)離化后的金屬離子，在陰極表面也會(huì)產(chǎn)生新的弧斑，許多弧斑不斷產(chǎn)生和消失，所以又稱多弧蒸發(fā)。zui早設(shè)計(jì)的等離子體jia速器型多弧蒸發(fā)離化源，是在陰極背后配置磁場(chǎng)，使蒸發(fā)后的離子獲得霍爾(hall)jia速xiao應(yīng)，有利于離子增大能量轟擊量體，采用這種電弧蒸發(fā)離化源鍍膜，離化率較高，所以又稱為電弧等離子體鍍膜。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于在經(jīng)予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩薄仿金膜等，從而獲得光亮、美觀、;價(jià)廉的塑料，陶瓷表面金屬化制品。廣泛應(yīng)用于汽車、摩托車燈具、工藝美術(shù)、裝潢裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、化妝品、手機(jī)、鬧鐘、女式鞋后跟等領(lǐng)域。.數(shù)控刀具PVD涂層技術(shù)PVD技術(shù)出現(xiàn)于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。zui初在高速鋼dao具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，人們?cè)陂_發(fā)gao性能、高可靠性涂層設(shè)備的同時(shí)，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制