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發(fā)布時(shí)間:2021-07-27 05:53  







主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等,它們?cè)趪窠?jīng)濟(jì)和防建設(shè)中得到廣泛的應(yīng)用,獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍的減??;采用高反射膜比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高;利用光學(xué)薄膜可提高硅電池的效率和穩(wěn)定性。

光學(xué)薄膜的特點(diǎn)是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。




反射膜一般可分為兩類,一類是金屬反射膜,一類是全電介質(zhì)反射膜。此外,還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜,功能是增加光學(xué)表面的反射率。金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡單,工作的波長范圍寬;缺點(diǎn)是光損大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高,可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層,組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是,金屬電介質(zhì)射膜增加了某一波長(或者某一波區(qū))的反射率,卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。


倘若沒有光學(xué)薄膜技術(shù)作為發(fā)展基礎(chǔ),近代光電、通訊或是鐳射技術(shù)將無法有所進(jìn)展,這也顯示出光學(xué)薄膜技術(shù)研究發(fā)展的重要性。

光學(xué)薄膜系指在光學(xué)元件或獨(dú)立基板上,制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類膜的組合,以改變光波之傳遞特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。故經(jīng)由適當(dāng)設(shè)計(jì)可以調(diào)變不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。




一般來說,光學(xué)薄膜的生產(chǎn)方式主要分為干法和濕法的生產(chǎn)工藝。所謂的干式就是沒有液體出現(xiàn)在整個(gè)加工過程中,例如真空蒸鍍是在一真空環(huán)境中,以電能加熱固體原物料,經(jīng)升華成氣體后附著在一個(gè)固體基材的表面上,完成涂布加工。日常生活中所看到裝飾用的金色、銀色或具金屬質(zhì)感的包裝膜,就是以干式涂布方式制造的產(chǎn)品。但是在實(shí)際量產(chǎn)的考慮下,干式涂布運(yùn)用的范圍小于濕式涂布。濕式涂布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態(tài)涂料,以不同的加工方式涂布在基材上,然后使液態(tài)涂料干燥固化做成產(chǎn)品。


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