鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強清洗效果，當鏡片清洗完后，放進真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。清洗是在真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。清洗是在真空艙內(nèi)鍍前進行的，放置在真空艙內(nèi)的離子槍將轟擊鏡片的表面（例如用亞離子），完成此道清洗工序后即進行減反射膜的鍍膜。

磁控濺射真空鍍膜機導致不均的因素哪些？專業(yè)從事這方面工作的朋友其實還是比較的了解的，它主要可以分為以下幾個因素就是：真空狀態(tài)、磁場、亞氣。

磁場是正交運作的，但你要將磁場強度做到一定均勻是不可能的，一般磁場強的地方，成膜厚度就大，相反就小，所以會造成膜層厚度的不一致，不過在生產(chǎn)過程中，由于磁場的不均勻?qū)е碌哪硬痪鶆虻那闆r卻不是常見的，為什么呢？

真空電鍍主要包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較好產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。常見的塑膠產(chǎn)品電鍍工藝有兩種：水電鍍和真空離子鍍.


真空制備的鍍層能防止鍍層材料和鍍層零件的表面污染，消除空間碰撞，提高鍍層的細度，制備出具有單一化合物特殊功能的鍍層。為了提高涂層厚度的均勻性，采用行星機構(gòu)或行星運動形式等旋轉(zhuǎn)運動設備的真空室具有良好的涂膜均勻性、良好的涂層臺階覆蓋性能、較大的承載能力，并能充分利用有用空間。這是一種常見的運動形式。排氣系統(tǒng)通常由機械泵、分散泵、管路和閥門組成。