與普通的陽極氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，與基質結合緊密， 且在耐蝕、耐磨性能等方面得到了很大的提高。鎂合金微弧氧化技術所形成的氧化膜主要由MgO和MgAl2O4尖晶石相組成，總膜厚可達100Lm以上,具有明顯的三層結構:外部的疏松層、中間的致密層和內部的結合層。微弧氧化技術生成的膜層綜合性能優(yōu)良，與基體結合牢固, 且工藝簡單，對環(huán)境污染小, 目前對其生長規(guī)律、生長機理和影響因素等已經有了較為深入的研究, 在工業(yè)上得到了一定的應用, 是一種具有發(fā)展?jié)摿Φ逆V合金表面處理技術。微弧氧化技術在現(xiàn)代工業(yè)中應用匯越來越廣泛。

      微弧氧化的陶瓷膜較陽極氧化膜在防腐蝕、耐磨性、電絕緣性和裝飾性等方面都有明顯的改善和提高，但并不意味著微弧氧化就屬于市場的專有產物。微弧氧化電源可用于鎂合金、鋁合金、鈦合金等輕金屬的表面氧化處理，使其具有更好的耐磨性、耐腐蝕性。事實上，微弧氧化正體現(xiàn)出非常明顯的普及趨勢。微弧氧化由于具有工藝簡單、占地面積小、、效果強、適合規(guī)模生產，又對環(huán)境污染小，因此目前在諸多行業(yè)都處于蓬勃發(fā)展的時期。可以預見在未來的輕金屬領域，微弧氧化工藝也將會迎來大規(guī)模應用的時代。微弧氧化生產線、微弧氧化技術、微弧氧化電源

       微弧電子學的研究方向就是在電子回路中設置一個由兩極和工作氣體或液體組成的氣固或氣液固界面，通過調控兩極之間的電磁場模式，以使固體表面誘發(fā)出具有“納米微束”放電特征的微弧現(xiàn)象，進而實現(xiàn)固體表面物質以“非熔發(fā)射”機制逐層剝離，再輔助以兩極之間的介質約束，達到對固體材料表面原位改性、納米尺度逐層剝離、納米粒徑薄膜制備的目的。陶瓷膜的生成，將導致工作電壓進一步升高，膜層再次被擊穿，膜層厚度進一步增加。微弧氧化生產線、微弧氧化技術

1、陽極氧化膜厚不足。解決的辦法是檢查陽極氧化工藝是否規(guī)范，看溫度，電壓，導電等因素是否穩(wěn)定，若有異常，請相應調整規(guī)范之，若無異常，可適當延長氧化時間，保證膜厚達標。

2、染液pH值太高，此時，可用冰醋酸將pH值調至規(guī)范值。

3、導電不良。可能陽極銅桿或陰極鉛板接觸不良所示批量導電不良。注意清洗陽極銅桿及陰極鉛板，保證接觸良好。