PVD涂層性能特點：1.優(yōu)異的附著力-可彎曲90度以上而不會po裂或剝落（PVD涂層具有很高的附著力和耐用性）。其他技術(shù)，包括電鍍和噴涂，無法比擬。2.可用于室內(nèi)裝飾或室外。3.抗yang化，防腐。PVD可以在不銹鋼，銅，鋅鋁合金和其他金屬上鍍金，黃銅，玫瑰金，銀白色，黑色，煙灰色，銅，棕色，紫色，藍色，酒紅色，青銅和其他顏色，可以根據(jù)具體要求提供所需的顏色和質(zhì)量。PVD技術(shù)廣泛用于門窗五金，廚房和浴室五金，燈具，水產(chǎn)品，珠寶，手工藝品和其他裝飾產(chǎn)品的加工和制造。手機鍍膜看似簡單，其實制作過程也很復(fù)雜，但各個環(huán)節(jié)都有更嚴格地要求，尤其注意模切工藝的控制。只有you質(zhì)的模切機器才能生產(chǎn)出優(yōu)zhi的產(chǎn)品，也會在一定程度上減少廢料，節(jié)省成本。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

因此需要合理設(shè)計鍍膜設(shè)備的抽氣系統(tǒng)，保證膜材蒸汽分子到達基片表面的速率高于殘余氣體分子到達的速率，以減少殘余氣體分子對膜層的撞擊和污染，提高膜層的純度。此外，在10-4Pa時真空室內(nèi)殘余氣體的主要組分為水蒸氣(約占90%以上)，水氣與金屬膜層或蒸發(fā)源均會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成氧化物而釋放出氫氣。因此，為了減少殘余氣體中的水分，可以提高真空室內(nèi)的溫度，使水分解，也是提高膜層質(zhì)量的一種有效辦法。還應(yīng)注意蒸發(fā)源在高溫下的放氣。在蒸發(fā)源通電加熱之前，可先用擋板擋住基片，然后對膜材加熱去氣。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個重要分支，它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話，這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分，一塊光學(xué)玻璃或石英表面上鍍一層或幾層不同物質(zhì)的薄膜后，即可成為高反射或無反射(即增透膜)或者作任何預(yù)期比例的反射或透射材料，也可以作成對某種波長的吸收，而對另一種波長的透射的濾色pian。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

對應(yīng)于PVD技術(shù)的三個分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今zui先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。物理氣相沉積（PVD）物理氣相沉積是通過蒸發(fā)，電離或濺射等過程，產(chǎn)生金屬粒子并與反應(yīng)氣體反應(yīng)形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍?nèi)N。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制