為了消除光學(xué)零件表面的反射損失，提高成像質(zhì)量，涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜，稱為增透膜或減反射膜。隨著激光技術(shù)的發(fā)展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展。為各種應(yīng)用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學(xué)零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

PVD的意思是“物理氣相沉積”，這是指一種薄膜制備技術(shù)，該技術(shù)使用物理方法在真空條件下將材料沉積在要電鍍的工件上。PVD涂層技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)涂層，真空濺射和真空離子涂層。對應(yīng)于三類PVD技術(shù)，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備還具有三種類型：真空蒸發(fā)鍍膜機，真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。在過去的十年中，真空離子鍍技術(shù)發(fā)展迅速，并且已成為當(dāng)今zui先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD涂層是指真空離子涂層，PVD鍍膜機通常是指真空離子鍍膜機。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

后處理，涂面漆。第三節(jié)濺射鍍膜濺射鍍膜是指在真空條件下，利用獲得功能的粒子轟擊靶材料表面，使靶材表面原子獲得足夠的能量而逃逸的過程稱為濺射。被濺射的靶材沉積到基材表面，就稱作濺射鍍膜。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。近年發(fā)展起來的規(guī)模性磁控濺射鍍膜，沉積速率較高，工藝重復(fù)性好，便于自動化，已適當(dāng)于進(jìn)行大型建筑裝飾鍍膜，及工業(yè)材料的功能性鍍膜，及TGN-JR型用多弧或磁控濺射在卷材的泡沫塑料及纖維織物表面鍍鎳Ni及銀Ag。第四節(jié)電弧蒸發(fā)和電弧等離子體鍍膜這里指的是PVD領(lǐng)域通常采用的冷陰極電弧蒸發(fā)，以固體鍍料作為陰極，采用水冷、使冷陰極表面形成許多亮斑，即陰極弧斑?；“呔褪请娀≡陉帢O附近的弧根。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

由于聚乙烯醇高阻隔復(fù)合膜具有良好的阻隔性能，且符合環(huán)保要求，所以，該種包裝材料的市場前景十分光明，在食品工業(yè)中有廣闊的市場空間。3、低密度聚乙烯薄膜（LDPE）低密度聚乙烯是在高壓下，乙烯自由基聚合而獲得的合成樹脂，故又稱“高壓聚乙烯”。LPDE為主鏈上帶有長短不同支鏈的支鏈型分子，在主鏈上每1000個碳原子約帶有15～30個乙ji、丁基或更長旳支鏈。由于分子鏈中含有較多的長短支鏈，因此產(chǎn)品的密度較低、柔軟、耐低溫性、耐沖擊性較好、具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性、一般情況下耐酸（除強氧化性酸外）、耐堿、鹽類的腐蝕作用、具有良好的電絕緣性能。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制