但是，鎳是一種you秀的軟磁材料，對基體磁性會形成屏蔽，當磁體體積小或很薄的時候屏蔽尤為明顯。單層鎳的侵蝕風險比較高，多層鍍或復合鍍能很好地解決這個問題。銅的化學性質活潑，容易生銹，所以一般不單獨使用，而是作為底鍍層或中間層來提高基底與表面鍍層的結合力。點擊了解更多電鍍相關知識（不同鍍層的使用場景、耐腐性等）3.化學鍍化學鍍與電鍍一樣，也是通過氧化還原反應，鍍液中的金屬離子還原成原子附著在磁體表層，不同的是沒有電流來吸引離子、增強原子附著力，所以需要有還原劑在鍍液中存，基體表面還需要催化。無需電源是化學鍍的zui大優(yōu)點，它可以在形狀復雜的磁體表面形成厚度均勻的鍍層，鍍層硬度高、空隙小、化學穩(wěn)定性高。

PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質。PVD鍍膜技術目前主要應用的行業(yè)：PVD鍍膜技術的應用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命；這方面主要應用五金行業(yè)的各個領域，如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命；這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具（如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等）、各種五金工具（如螺絲刀、鉗子等）、各種模具等產(chǎn)品中。

但由于金屬離化過程非常激烈，會產(chǎn)生較多的有害雜質顆粒，涂層表面較為粗糙。②磁控離子濺射（SPUTTERING）：真空磁控離子濺射過程中，ya離子被被加速打在加有負電壓的陰極（靶材）上。離子與陰極的碰撞使得靶材被濺射出帶有平均能量4-6eV的金屬離子。這些金屬離子沉積在放于靶前方的被鍍工件上，形成涂層薄膜。由于金屬離子能量較低，涂層的結合力與硬度也相應較真空陰極弧物理蒸發(fā)方式差一些，但由于其表面質量優(yōu)異被廣泛應用于有表面功能性和裝飾性的涂層領域中。