眾所周知，鍍鈦是在高溫，真空鈦金爐內(nèi)，鈦、鋯金屬。圓柱形磁控濺射陰極也逐步運(yùn)用到生產(chǎn)當(dāng)中(圖b),兩者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低。借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速而沉積帶負(fù)電荷的不銹鋼板上，從而形成色澤豐富艷麗的金屬膜。這么做不僅僅是為了增加產(chǎn)品的美觀程度，也可以很大程度上提升其使用壽命，所以在實(shí)際中得到了廣泛應(yīng)用，成為當(dāng)今公認(rèn)的、能加工硬脆非金屬材料的工具。

感應(yīng)加熱式蒸發(fā)鍍膜

利用高頻電磁場(chǎng)感應(yīng)加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。

優(yōu)點(diǎn)蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右  蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定，不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象坩堝溫度較低，坩堝材料對(duì)膜導(dǎo)污染較少缺點(diǎn)蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價(jià)高、設(shè)備復(fù)雜

在真空中，高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而逸出表面，到達(dá)襯底凝結(jié)成膜的技術(shù)。

與真發(fā)鍍膜相比，濺射鍍膜適用于所有（包括高熔點(diǎn)）材料，具有附著力強(qiáng)、成分可控、易于規(guī)?；a(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。

但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜，因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。

帶正電荷的蒸發(fā)料離子，在陰極吸引下，隨同離子一同沖向工件，當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子超過(guò)濺失離子的數(shù)量時(shí)，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。這就是離子鍍的簡(jiǎn)單作用過(guò)程。

PVD技術(shù)四個(gè)工藝步驟

(1)清洗工件：接通直流電源，氣進(jìn)行輝光放電為離子，離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

(2)鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

其缺點(diǎn)是：

1）工藝比傳統(tǒng)單色PVD的更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高；

2）生產(chǎn)良率低，大約為65～70%（傳統(tǒng)單色PVD的生產(chǎn)良率一般為85～90%；

3）價(jià)格會(huì)比傳統(tǒng)單色PVD的高50～60%；

4）因工藝和流程的影響，雙色PVD生產(chǎn)限制較多，受產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的影響較大，而傳統(tǒng)單色PVD則幾乎不受限制

現(xiàn)代涂層設(shè)備(均勻加熱技術(shù)、溫度測(cè)量技術(shù)、非平衡磁控濺 射技術(shù)、輔助陽(yáng)極技術(shù)、中頻電源、脈沖技術(shù)) 現(xiàn)代涂層設(shè)備主要由真空室、真空獲得部分、真空測(cè)量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統(tǒng)、機(jī)械傳動(dòng)部分、加熱及測(cè)溫部件、離子蒸發(fā)或?yàn)R射源、水冷系統(tǒng)等部分組成。氮化鉻涂層（CrN）CrN涂層具有良好的抗粘結(jié)性，抗腐蝕性，耐磨性。