脈沖激光沉積細(xì)節(jié)介紹

很多復(fù)雜氧化物薄膜在相對(duì)高的氧氣壓力（>100 Torr）下冷卻是有利的。所有Pioneer 系統(tǒng)設(shè)計(jì)的工作壓力范圍。從它們的額定初始?jí)毫Φ酱髿鈮毫?。這也有益于納米粒子的生成。

Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的均勻性，同時(shí)避免使用復(fù)雜而昂貴的光學(xué)部件。淺的入射角能夠拉長(zhǎng)靶材上的激光斑點(diǎn)，導(dǎo)致密度均勻性的損失。

為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵流體，消除油的回流對(duì)薄膜質(zhì)量的影響，所有Pioneer 系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置都采用無(wú)油真空系統(tǒng)。

我們的研究表明靶和基片的距離是獲得較佳薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵參數(shù)。Pioneer 系統(tǒng)采用可變的靶和基片的距離，對(duì)沉積條件進(jìn)行較大的控制。

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脈沖激光沉積簡(jiǎn)介

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。

【設(shè)備主要用途】

PLD450A型脈沖激光沉積設(shè)備采用PLD脈沖激光沉積技術(shù)，用于制備高溫超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體膜、鐵電薄膜、硬質(zhì)薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質(zhì)結(jié)，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機(jī)—無(wú)機(jī)復(fù)合材料薄膜及金剛石薄膜等。

【設(shè)備優(yōu)點(diǎn)】

設(shè)備全程采用一鍵式操作抽氣，關(guān)機(jī)，程序自動(dòng)化定時(shí)操作。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開(kāi)啟。

【設(shè)備主要組成】

設(shè)備由沉積腔室（單室球形或圓筒形）、樣品加熱轉(zhuǎn)臺(tái)、激光入射轉(zhuǎn)靶、激光窗、電源控制系統(tǒng)、激光束掃描系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制轉(zhuǎn)靶的旋轉(zhuǎn)、脈沖準(zhǔn)分子激光器等組成