鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，大多數(shù)金屬的反射率都可達(dá)到78%~98%，但不可高于98%。無論是對(duì)于CO2激光，采用銅、鉬、硅、鍺等來制作反射鏡，采用鍺、chen化jia、硒化鋅作為輸出窗口和透射光學(xué)元件材料，還是對(duì)于YAG激光采用普通光學(xué)玻璃作為反射鏡、輸出鏡和透射光學(xué)元件材料，都不能達(dá)到全反射鏡的99%以上要求。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

簡介影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。鏡面的粗糙度會(huì)造成入射光的漫射，降低鏡片的透光率。此外材質(zhì)的吸旋光性，也會(huì)造成某些入射光源的其中部分頻率消散的特別嚴(yán)重。例如會(huì)吸收紅色光的材質(zhì)看起來就呈現(xiàn)綠色。不過這些加工不良的因素都可以盡可能地去除。很可惜的是大自然里本來就存在的缺陷。當(dāng)入射光穿過不同的介質(zhì)時(shí)，就一定會(huì)發(fā)生反射與折射的問題。若是我們垂直入射材質(zhì)的話，我們可以定義出反射率與穿透率。鍍膜的折射率其實(shí)這兩個(gè)問題是一致的。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

由于模具型腔在高溫下工作，因此壓鑄模具性能的改善的需要具有以下特性在模具使用壽命內(nèi)，必須保持在高溫和低溫交替條件下的型腔面精度和變形量。因此壓鑄模具的材料除了應(yīng)具備有塑料模具的特點(diǎn)外，還應(yīng)該具有you秀的抗高溫性能、硬度、抗yang化性、回火穩(wěn)定性和抗沖擊韌性，具有良好的導(dǎo)熱性和kang疲勞性，傳統(tǒng)壓鑄模具采用淬火，回火，拋光的處理工藝，對(duì)材料本身的硬度提高有限，同時(shí)溫度由于工作溫度接近或者超過回火溫度，易造成模具的二次回火造成模具硬度降低和，模具變形。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制

在信息存儲(chǔ)領(lǐng)域中薄膜材料作為信息記錄于存儲(chǔ)介質(zhì)，有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄，可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。為了更精密地記錄與存儲(chǔ)信息，必然要采用鍍膜技術(shù)。13.在傳感器方面在傳感器中，多采用那些電氣性質(zhì)相對(duì)于物理量、化學(xué)量及其變化來說，極為敏感的半導(dǎo)體材料。此外，其中，大多數(shù)利用的是半導(dǎo)體的表面、界面的性質(zhì)，需要盡量增大其面積，且能工業(yè)化、低價(jià)格制作，因此，采用薄膜的情況很多。14.在集成電路制造中晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及其合金）等，多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)?？梢?，氣相沉積是制備集成電路的核心技術(shù)之一。 次數(shù)用完API KEY 超過次數(shù)限制