原來磁場強弱雖不好進行控制，但同時工件也在同時運轉(zhuǎn)，且是靶材原子多次沉積此案結(jié)束鍍膜工序，在一段時間內(nèi)雖然某些部位厚，某些部位薄，但另一個時間內(nèi)，磁場強的作用下在原來薄的部位沉積上厚的，在厚的部位沉積上薄的，如此多次，整個膜層成膜后，均勻性還是比較不錯的。

亞氣的送氣均勻性也會對膜層均勻性產(chǎn)生影響，其原理實際上和真空度差不多，因為亞氣的進入，真空室內(nèi)壓強會產(chǎn)生變化，均勻的壓強大小可以控制成磁控濺射真空鍍膜機膜厚度的均勻性。

真空電鍍設(shè)備對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，真空電鍍設(shè)備熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。

真空電鍍設(shè)備施涂性能良好。真空電鍍設(shè)備流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ?、固化時間短。真空電鍍設(shè)備與鍍膜層要有良好的接觸性能;真空電鍍設(shè)備與底涂層要有一定的相溶性;真空電鍍設(shè)備成膜性能與施涂性能優(yōu)良;真空電鍍設(shè)備具有適當(dāng)?shù)臋C械強度;真空電鍍設(shè)備防潮、抗溶劑、耐真空電鍍設(shè)備腐蝕性能好?？估匣阅軓?。

真空電鍍主要包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較好產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。常見的塑膠產(chǎn)品電鍍工藝有兩種：水電鍍和真空離子鍍.