鍍鈦技術(shù)可增強(qiáng)模具脫模性，減少產(chǎn)品與模具粘結(jié)，避免在生產(chǎn)過程中因使用脫模劑而污染塑件，保證紅酒杯塑件在脫模時(shí)不易拉傷，有效的提高產(chǎn)品質(zhì)量。

      鍍鈦工藝還可增強(qiáng)模具表面硬度，減少原材料在高壓沖刷下對(duì)高光面造成的損傷，從而延長(zhǎng)模具壽命。

機(jī)械拋光技術(shù)對(duì)拋光工具要求甚高，需具備高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等輔助品。

基片置于合適的位置是獲得均勻薄膜的前提條件.

b、壓強(qiáng)的大小. 為了保證膜層質(zhì)量,壓強(qiáng)應(yīng)盡可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸發(fā)源到基片的距離為L(zhǎng)(cm)。

c、蒸發(fā)速率.蒸發(fā)速率小時(shí),沉積的膜料原子(或分子)上立刻吸附氣體分子,因而形成的膜層結(jié)構(gòu)疏松,顆粒粗大,缺陷多;反之,膜層結(jié)構(gòu)均勻致密,機(jī)械強(qiáng)度高,膜層內(nèi)應(yīng)力大.

d、基片的溫度.在通常情況下,基片溫度高時(shí),吸附原子的動(dòng)能隨之增大,形成的薄膜容易結(jié)晶化,并使晶格缺陷減少;基片溫度低時(shí),則沒有足夠大的能量供給吸附原子,因而容易形成無(wú)定形態(tài)薄膜.

靶材承受的功率密度是有限的.靶面溫度過高會(huì)導(dǎo)致靶材熔化或引起弧光放電.在直接水冷的情況下,金屬靶材的靶功率密度允許值為10~30W/cm2.根據(jù)選定的靶電壓和允許的靶功率密度,即可確定靶電流密度.

降低Ar壓強(qiáng)有利于提高鍍膜速率,還有利于提高膜層結(jié)合力和膜層致密度.磁控濺射的Ar壓強(qiáng)通常選為0.5Pa,氣體放電的阻抗隨Ar壓強(qiáng)的降低而升高.磁控濺射時(shí),可以適當(dāng)調(diào)節(jié)Ar壓強(qiáng),