在電鍍工藝試驗和鍍液故障分析中廣泛采用“正交試驗法”，因為采用“正交試驗法”可以用較少的試驗次數，獲得較優(yōu)的試驗結果。我們認為，在工藝試驗和鍍液故障分析中如果能把“正交試驗法”和赫爾槽試驗結合起來，將可采用更少的試驗次數而獲得試驗結果。

赫爾槽是一種小型快速電鍍試驗槽，在赫爾槽中，陽極和陰極是相互傾斜安放的，其陽極兩端和陰極兩端距離不等，因此赫爾槽陰極試樣的電流密度范圍極其廣闊，只要通過一次試驗就可以根據不同電流密度上鍍層狀況來了解鍍液的性能。

零件形狀對電鍍質量的影響，主要是由于它影響著電鍍電流在零件表面上分布的均勻性。在零件上的邊棱部位、孔口部位是電流比較集中的部位，這些部位分布的電鍍電流可能要比其他表面高很多倍，而在深凹的表面上，如孔的內表面、內螺紋表面，往往不使用輔助陽極是很難引入電鍍電流的。由此可見，在形狀復雜的零件表面上電鍍，各部位表面上的鍍層厚度必然差異很大，即使采用分散能力、覆蓋能力都非常好的鍍液進行電鍍，有時候也很難克服形狀復雜所造成的影響。因此，對形狀復雜的零件表面，規(guī)定鍍層厚度的均勻性指標或要求所有的表面全部有鍍層是不客觀的。為此，電鍍企業(yè)遇到形狀復雜的零件電鍍時，必須與用戶協(xié)調對鍍覆層的要求。

單從燒焦而言，特別是對于簡單鹽電鍍，pH 低些為好；但鍍液pH 對鍍液性能的影響是多方面的，應綜合考慮各方面因素后確定較佳pH。比如pH 低時，光亮劑的吸附性能下降，需用量與消耗量都大增，造成有機雜質增加過快。因鎳價上漲，有的鍍鎳液中主鹽濃度控制得很低，這容易使鍍層燒焦，為防止燒焦又要將pH 調得很低；但主鹽濃度低了又會出現光亮整平性下降等其他問題。故pH 過低并非好事。電鍍技術的復雜性之一就在于不能簡單地根據某一種需求而隨意改變配方與工藝條件，而應綜合權衡得失。