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光刻膠的應(yīng)用
光刻膠的應(yīng)用
1975年,美國(guó)的國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備與材料協(xié)會(huì)首先為微電子工業(yè)配套的超凈高純化學(xué)品制定了國(guó)際統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)——SEMI標(biāo)準(zhǔn)。1978年,德國(guó)的伊默克公司也制定了MOS標(biāo)準(zhǔn)。兩種標(biāo)準(zhǔn)對(duì)超凈高純化學(xué)品中金屬雜質(zhì)和(塵埃)微粒的要求各有側(cè)重,分別適用于不同級(jí)別IC的制作要求。其中,SEMI標(biāo)準(zhǔn)更早取得世界范圍內(nèi)的普遍認(rèn)可。在光刻膠生產(chǎn)種類上,我國(guó)光刻膠廠商主要生產(chǎn)PCB光刻膠,而LCD光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠生產(chǎn)規(guī)模較小,相關(guān)光刻膠主要依賴進(jìn)口。
政策扶持
為促進(jìn)我國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,國(guó)家02重大專項(xiàng)給予了大力支持。今年5月,02重大專項(xiàng)實(shí)施管理辦公室組織任務(wù)驗(yàn)收專家組、財(cái)務(wù)驗(yàn)收專家組通過(guò)了“極紫外光刻膠材料與實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)技術(shù)研究”項(xiàng)目的任務(wù)驗(yàn)收和財(cái)務(wù)驗(yàn)收。
據(jù)悉,經(jīng)過(guò)項(xiàng)目組全體成員的努力攻關(guān),完成了EUV光刻膠關(guān)鍵材料的設(shè)計(jì)、制備和合成工藝研究、配方組成和光刻膠制備、實(shí)驗(yàn)室光刻膠性能的初步評(píng)價(jià)裝備的研發(fā),達(dá)到了任務(wù)書中規(guī)定的材料和裝備的考核指標(biāo)。項(xiàng)目共申請(qǐng)發(fā)明專利15項(xiàng)(包括國(guó)際專利5項(xiàng)),截止到目前,共獲得授權(quán)專利10項(xiàng)(包括國(guó)際專利授權(quán)3項(xiàng))。而細(xì)化到半導(dǎo)體用光刻膠市場(chǎng),國(guó)內(nèi)企業(yè)份額不足30%,與國(guó)際水平存在較大差距。
PR1-1000A1
NR9-3000PY 負(fù)性光刻膠
負(fù)膠 NR9-3000PY 被設(shè)計(jì)用于i 線(365 nm)曝光,可使用如步進(jìn)光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻
和接觸式光刻等工具。
顯影之后,NR9-3000PY 展現(xiàn)出一種倒梯形側(cè)壁,這可以方便地作單純的LIFT-OFF 處理。
NR9-3000PY 相對(duì)于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢(shì):
- 優(yōu)異的分辨率性能
- 快速地顯影
- 可以通過(guò)調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度
- 耐受溫度100℃
- 室溫儲(chǔ)存保質(zhì)期長(zhǎng)達(dá)3 年
Lift-Off工藝
應(yīng)用領(lǐng)域:LEDs,OLEDs,displays,MEMS,packaging,biochips。
濕法蝕刻,鍍 干法蝕刻(RIE/Ion Milling/Ion implantation)
附著力好Temperature resistance = 100°C 耐高溫Temperature resistance = 180°C
Resist Thickness NR9-3000PY 負(fù)性光刻膠
負(fù)膠 NR9-3000PY 被設(shè)計(jì)用于i 線(365
nm)曝光,可使用如步進(jìn)光刻、掃描投影式光刻、接近式光刻
光刻膠
PCB
光刻膠
主要分為干膜光刻膠、濕膜光刻膠(又稱為抗蝕刻/線路油墨)、光成像阻焊油墨等。PCB 光刻膠技術(shù)壁壘相對(duì)較低,主要是中低端產(chǎn)品。
LCD
包含彩色濾光片用彩色光刻膠及黑色光刻膠、LCD 觸摸屏用光刻膠、TFT-LCD 正性光刻膠等產(chǎn)品。
彩色濾光片是LCD
實(shí)現(xiàn)彩色顯示的關(guān)鍵器件,占面板成本的14%~16%;在彩色濾光片中,彩色光刻膠和黑色光刻膠是核心材料,占其成本的27%左右,其中黑色光刻膠占彩色濾光片材料成本的6%~8%。
半導(dǎo)體光刻膠
包括g 線光刻膠、i 線光刻膠、KrF 光刻膠、ArF 光刻膠、聚酰YA光刻膠、掩膜板光刻膠等。