真空鍍膜機磁控濺射主要工藝流程：

1、基片清洗，主要是用蒸汽清洗，隨后用乙醇浸泡基片后快速烘干，以去除表面油污；

2、抽真空，真空須控制在2×104Pa以上，以保證薄膜的純度；

3、加熱，為了除去基片表面水分，提高膜與基片的結(jié)合力，需要對基片進行加熱，溫度一般選擇在150℃~200℃之間；

4、Ar氣分壓，一般選擇在0.01~1Pa范圍內(nèi)，以滿足輝光放電的氣壓條件；

5、預濺射，預濺射是通過離子轟擊以除去靶材表面氧化膜，以免影響薄膜質(zhì)量；

6、濺射，Ar氣電離后形成的正離子在正交的磁場和電場的作用下，高速轟擊靶材，使濺射出的靶材粒子到達基片表面沉積成膜；

7、退火，薄膜與基片的熱膨脹系數(shù)有差異，結(jié)合力小，退火時薄膜與基片原子相互擴散可以有效提高粘著力。

真空鍍膜機磁控濺射鍍膜的特點：薄膜純度高，致密，厚度均勻可控制，工藝重復性比較好，附著力強。

依據(jù)濺射源的不同，真空鍍膜機磁控濺射有直流和射頻之分，兩者的主要區(qū)別在于氣體放電方式不同，真空鍍膜機射頻磁控濺射利用的是射頻放電，陶瓷產(chǎn)品使用的是射頻磁控濺射鍍。

真空鍍膜機PVD鍍膜常規(guī)知識介紹

真空鍍膜機PVD技術(shù)可以應用到海上用品、首飾、工藝品、門窗五金、廚衛(wèi)五金、燈具、海上用品、首飾、工藝品，及其它裝飾性制品的加工制造，應用是非常的廣泛，很多客戶采購設備時，對這方面的相關知識也是非常的感興趣，今天至成真空小編，為大家介紹一下真空鍍膜機PVD鍍膜常規(guī)知識，希望能幫助大家提升相關知識和技能。

PVD鍍膜(離子鍍膜)技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD鍍膜膜層的特點,采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。

真空鍍膜機PVD鍍膜技術(shù)目前主要應用的行業(yè),PVD鍍膜技術(shù)的應用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命;這方面主要應用五金行業(yè)的各個領域，如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命;這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具(如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等)、各種五金工具(如螺絲刀、鉗子等)、各種模具等產(chǎn)品中

真空PVD鍍膜涂層工藝冷卻如何進行？

1.高閥關閉，真空計關閉，真空室與泵組隔離；

2.當操作人員按下N2vent按鈕，預先接好的氮氣會通過N2充氣閥充入真空室，當真空室內(nèi)的壓力達到壓力開關預設的壓力時，N2充氣閥關閉。

3.真空室內(nèi)充入了大量N2，真空度很低，更加有利于熱傳導，所以降溫速度比不充冷卻N2時快很多，縮短冷卻時間，提高生產(chǎn)效率，實際冷卻時間可由原來的90分鐘縮短為60分鐘。

4.由于氦氣的熱傳導率更高，所以充入冷卻氦氣比氮氣降溫速度更快，但是成本也更高。

5.國外設備快速冷卻程序，通過冷卻氣體的循環(huán)冷卻，能縮短冷卻時間50%。

為什么要進行壓升率測試？

真空環(huán)境條件是影響終涂層質(zhì)量重要的因素。鍍膜前，必須進行壓升率測試，以保證真空環(huán)境條件滿足鍍膜標準。

怎樣進行壓升率測試？

在我們的自動鍍膜工藝中，壓升率測試是自動進行。當真空室內(nèi)真空度達到工藝設定的本底真空后，進入壓升率測試步驟。

系統(tǒng)會自動關閉高閥，此時真空室與泵組隔離，真空室內(nèi)壓力會升高。在一定時間內(nèi)（一般1分鐘），如果壓力不超過設定的報警值，系統(tǒng)會自動進行下一步程序，進入鍍膜步驟。如果壓力超過設定的報警值，系統(tǒng)會有報警提示，此時，操作人員應按照操作流程，再次進行抽真空和加熱烘烤，然后重復進行壓升率測試，直至壓升率滿足鍍膜條件。