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進(jìn)口放射性薄層掃描儀中國區(qū)代理品牌企業(yè) 東方圓通公司

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發(fā)布時(shí)間:2020-12-27 23:58  
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視頻作者:北京東方圓通科技發(fā)展有限公司






AR-2000放射性TLC 薄層掃描儀

東方圓通科技——專業(yè)薄層放射性掃描儀供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

美國AR-2000可對所有放射性同位素樣品進(jìn)行直接計(jì)數(shù)、并能確保實(shí)驗(yàn)及放化純度測量的準(zhǔn)確度??稍谑昼妰?nèi)對1000DPM的3H或100DPM的14C完成掃描成像??稍?~4hours內(nèi)完成對20cm×20cm板完整的二維分析(分析3H,14C)。 AR-2000成像掃描儀適用于放射性藥和藥代動(dòng)力學(xué)的研究。能夠?qū)φ娮影l(fā)射體和99mTc,111In,131I等標(biāo)記的放射性藥進(jìn)行放化純度測定。 AR-2000成像掃描儀分析3H時(shí)可直接在TLC板上、凝膠柱或樣點(diǎn)測得計(jì)數(shù),無須刮擦、剪紙。 Winscan 3.0 AR-2000軟件??稍诖翱谥酗@示整個(gè)范圍的掃描情況。具有及時(shí)收集數(shù)據(jù),峰的檢測定位,自動(dòng)積分,數(shù)據(jù)評估,制定報(bào)告和輸出等各種特性。 Winscan 2D成像掃描軟件。Winscan 2D成像掃描軟件能對樣品進(jìn)行2維掃描成像處理??蓡紊蛉@示放射性分布圖,可自動(dòng)或手動(dòng)縮放分布圖,用2D圖可自動(dòng)尋找峰并積分,直接輸出或打印圖像。和1維掃描一樣簡單,只需簡單編排好所要求的步驟與計(jì)數(shù)時(shí)間,然后讓機(jī)器自動(dòng)掃描。可單色或全色顯示放射性分布圖,可自動(dòng)或手動(dòng)縮放分布圖,用2D圖可自動(dòng)尋找峰并積分,直接輸出或打印圖像。 技術(shù)參數(shù) 靈敏性:100DPM 18F,14C,32P,100DPM3H,125I; 線 性:1%以內(nèi); 分辨率:0.5-3mm; 本底:<0.15DPM/min; 重量: 20kg。

選配:Winscan 3.0 AR-2000軟件系統(tǒng)軟件








Mini-Scan 放射性TLC 薄層掃描儀

以下是東方圓通科技為您一起分享的內(nèi)容,東方圓通科技專業(yè)生產(chǎn)薄層放射性掃描儀,歡迎新老客戶蒞臨。

美國BIOSCAN 公司放射性同位素檢測器以及通用的Mini-Scan 放射性TLC 薄層描儀應(yīng)用于放化分析和核醫(yī)學(xué)。

● F18-FDG,Tc99m,123I等放射藥1物的日常品質(zhì)控制;

● α,β,γ射線標(biāo)記化合物的放化純度分析;

● 毒理學(xué)和制藥學(xué)的14C檢測;

● 進(jìn)行化合物反應(yīng)的TLC分析;

更換探頭可適用于其它檢測;

● 可以在HPLC檢測系統(tǒng)中應(yīng)用;

● 應(yīng)用于放射物理軟件系統(tǒng)。








Mini-Scan 放射性TLC 薄層掃描儀應(yīng)用

放射化學(xué)、放化純度、

用于γ、β和α射線標(biāo)記的放射性藥1物的薄層色譜分析。

寬探測范圍適用于大部分應(yīng)用

可用于TLC和HPLC系統(tǒng)

簡單的系統(tǒng)安裝和維護(hù)。

規(guī)格與技術(shù)參數(shù):

輸出:0-1V

平板面積:5×20cm

范圍:20,200,2000,20000

大?。?6×24×30cm

高壓:0-1000V

重量:8Kg探測:0.1,0.25,1.0,2.0mm/s

電源:110/220V(50/60Hz)

配置:主機(jī) β探頭(適用于14C檢測)

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TLC 薄層層析技術(shù)

以下內(nèi)容由東方圓通科技為您提供,希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

薄層色譜法簡稱TLC,是在50年代從經(jīng)典柱色譜法和紙色譜法基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種色譜技術(shù)。60年代后,人們對薄層色譜法的標(biāo)準(zhǔn)化、規(guī)范化及擴(kuò)大應(yīng)用等方面進(jìn)行了許多工作,使該方法日趨成熟?,F(xiàn)已成為現(xiàn)代有機(jī)合成、高分子材料分離與解析的重要方法。3)、熒光試劑:制造熒光背景,使原來紫外下無熒光物質(zhì)被鑒別,有熒光物質(zhì)更明顯。結(jié)合柱分離的薄層色譜技術(shù)能夠具有充分的實(shí)戰(zhàn)意義。








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