曬版機(jī)（曝光機(jī)）的工作原理及操作步驟

曬版機(jī)是用于制作印版的一種接觸曝光成像設(shè)備。

（1）曬版機(jī)對(duì)光源的要求：首先應(yīng)根據(jù)PS版的感光特性來(lái)選擇光源，PS版的感光范圍一般在280-450nm，因粘貼膠片的片基和曬版機(jī)玻璃對(duì)320nm波長(zhǎng)以下的光具有較強(qiáng)烈的吸收作用。主要特點(diǎn)：這個(gè)類型的設(shè)備只有一個(gè)燈管，曝光臺(tái)面也是分有上下方兩個(gè)鏡子，使用的是光線折射的原理。因此320nm以下波長(zhǎng)的光對(duì)PS版感光層起不到感光效能，感光性能較好的PS版將感光范圍定在320-450nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)；碘jia燈是當(dāng)今通用且的光源，其波長(zhǎng)分布在350-450nm范圍內(nèi)，對(duì)多數(shù)曬版感光層有效。這種光源有較強(qiáng)的輻射熱，因此曬版機(jī)應(yīng)具備良好的散熱裝置。

曝光機(jī)是不是曬版機(jī)，有什么區(qū)別

曝光機(jī)也是曬版機(jī)，只是叫法不同。比如馬玲署俄羅斯叫土豆。原理也就是讓紫外線對(duì)涂有感光膠的網(wǎng)版，進(jìn)行曝光，當(dāng)然其間有菲林片。

曝光機(jī)的注意事項(xiàng)：

1、長(zhǎng)期不用應(yīng)拔下插頭。

2、用完曬版機(jī)后要置總開關(guān)于“0”位置。

3、需保持工作面的清潔度和干燥度，使用前后要用柔軟細(xì)嫩布擦凈。

4、保持通風(fēng)干凈，不易于腐蝕性物品放在一起。

5、不宜放在高溫潮濕處，一般入放在5℃-40℃為宜。

6、連續(xù)兩次使用間隔時(shí)間要大于5分鐘，否則會(huì)降低燈管的使用壽命。

7、曬版工作后要散熱5分鐘后再可以工作。

LDI機(jī)

LDI曝光速度的瓶頸因素包括：數(shù)據(jù)的儲(chǔ)存與傳送、鐳射能量、切換速度、多邊型的制作速度、光阻的感光度、鐳射頭移動(dòng)速度、電路板傳送作業(yè)模式等。

以基本的影響因素而言，有三個(gè)獨(dú)立的因子會(huì)影響曝光速率：

1、能量密度   2、數(shù)據(jù)調(diào)變的速度   3、機(jī)械機(jī)構(gòu)速度

光阻必須要有一定量的能量送到表面才能產(chǎn)生適當(dāng)?shù)钠毓?，而高敏度的光阻需要的能量相?duì)較低。碘jia燈是當(dāng)今最通用且效率高的光源，其波長(zhǎng)分布在350-450nm范圍內(nèi)，對(duì)多數(shù)曬版感光層有效。因?yàn)榭偰芰康扔诠β食松蠒r(shí)間，高敏度的感光膜在同樣的功率下所需的曝光時(shí)間就比較短。而曝光系統(tǒng)的功能輸出，主要來(lái)自于系統(tǒng)的光源設(shè)計(jì)，所以這是能量與時(shí)間的關(guān)系與解析度無(wú)關(guān)。

自動(dòng)平行曝光機(jī)和ldi曝光機(jī)有什么區(qū)別？

主要特點(diǎn)：這個(gè)類型的設(shè)備只有一個(gè)燈管，曝光臺(tái)面也是分有上下方兩個(gè)鏡子，使用的是光線折射的原理。曝光機(jī)理：通過(guò)UV光照射，使干膜感光劑中的非聚合狀態(tài)有機(jī)分子橋接成聚合體。當(dāng)兩個(gè)面同時(shí)進(jìn)行曝光的時(shí)候，上下燈的曝光是分開的。先進(jìn)行曝光，一面鏡子將光線反射到臺(tái)面的上方鏡子，然后再折射到曝光臺(tái)面上。下燈曝光時(shí)，光線是直接直射到下方的鏡子里然后在折射到臺(tái)面上，因此說(shuō)使用品行曝光機(jī)進(jìn)行曝光的時(shí)候，上燈的能量會(huì)比下燈的能量要更大一些，曝光及級(jí)數(shù)才會(huì)一樣。