1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)溫度范圍為35—45%。濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。

現(xiàn)在國內(nèi)的相關(guān)企業(yè)很多，所以凈化工程企業(yè)之間的競爭也很激烈，因為科技的發(fā)展使得市場對凈化工程的要求高了起來，從以前的價格競爭變成了現(xiàn)在的價值競爭。所以相關(guān)的凈化工程企業(yè)應(yīng)該提高自身的自主研發(fā)能力，不斷的發(fā)展，才能適應(yīng)這個競爭激烈的市場。凈化工程的步的關(guān)鍵是設(shè)計，工程設(shè)計水平的好與壞將直接關(guān)系到整個工程之后的施工，還會影響凈化工程今后的穩(wěn)定性、可靠性、經(jīng)濟(jì)性。1000級 一般只對塵埃濃度做要求，用于光學(xué)器件，儀器等高精儀器等10000級，用于液壓設(shè)備的生產(chǎn)，和一些食品飲料的生產(chǎn)。100000級，這個級別比較的低，對凈化度要求不是很高，主要在印刷廠，包裝廠等。

布置工藝的流程盡可能短，減少交叉往復(fù)，、物流走向合理。要配備人員凈化室、物料凈化室，除配備產(chǎn)品工序要求的用室外，還應(yīng)配備潔具室、洗衣間、暫存室等，每間用室相互獨(dú)立，凈化工程的面積應(yīng)在保證基本要求前提下，與生產(chǎn)規(guī)模相適應(yīng)。凈化工程的步的關(guān)鍵是設(shè)計，工程設(shè)計水平的好與壞將直接關(guān)系到整個工程之后的施工，還會影響凈化工程今后的穩(wěn)定性、可靠性、經(jīng)濟(jì)性。排風(fēng)系統(tǒng)有一般排風(fēng)系統(tǒng)、有機(jī)氣體排風(fēng)系統(tǒng)、酸性氣體排風(fēng)系統(tǒng)、堿性氣體排風(fēng)系統(tǒng)等，凈化車間設(shè)計時，要根據(jù)實際情況選擇。

1級：塵埃易使芯片失效或者穩(wěn)定性下降，當(dāng)金屬塵埃落于集成電路上時，就可能造成短路。當(dāng)空氣中的酸性離子落在電路上時，可能將電路腐蝕，因此凈化空調(diào)系統(tǒng)對微電子工業(yè)而言至關(guān)重要。此外，液晶、光纖的生產(chǎn)也需要1級潔凈度的要求。濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。凈化工程的一般施工程序：粉塵作業(yè)，無塵作業(yè)后，不允許交叉作業(yè)。 否則會影響項目的質(zhì)量。 也就是說，在完成所有粉塵產(chǎn)生操作之后，可以進(jìn)行無塵操作。