派瑞林原料cN是一種很好的介電材料，具有非常低的介質(zhì)損耗、高絕緣強度以及不隨頻率變化的介電常數(shù)，是所有派瑞林原料c中穿透能力的一種，并具有很好的自潤滑性；

派瑞林原料cF具有高通透性和介電性能好的特點，在光電和等領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用；

派瑞林原料cHT具有更低的介電常數(shù)，透波性能好，熱穩(wěn)定性好。

派瑞林原料c可以涂敷到各種形狀的表面，在鹽霧、霉菌、潮濕、腐蝕性等惡劣環(huán)境中顯示了很好的隔離防護功能。而且生物相容性和生物穩(wěn)定性也好，無毒無副產(chǎn)物，可以進行常規(guī)消毒。隨著生物電子科學的不斷進步和發(fā)展，領(lǐng)域的很多方面都有使用派瑞林。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材?；c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。真空鍍膜機對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，蒸發(fā)或濺射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過程。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機物，都可以氣相沉積各種金屬膜和介質(zhì)膜，不同的材料可以同時氣相沉積得到多層膜。

對于真空鍍膜機設(shè)備而言，真空泵是獲得真空環(huán)境不可缺少的一部分，制造商每次制造真空鍍膜設(shè)備時都會搭配一個或多個真空泵。

真空鍍膜機在選擇如何選擇真空泵時，應(yīng)注意以下事項：

1.真空泵的工作壓力必須滿足真空設(shè)備的極限真空和工作壓力要求。

2.正確地選擇真空泵的工作壓力。每種泵都有一定的工作壓強范圍,

3.真空泵在工作壓力下，應(yīng)能排出真空設(shè)備工藝過程中產(chǎn)生的全部氣體量。

4.真空泵的正確組合有選擇性吸入，所以有時選擇一種泵也不能滿足進氣要求，必須與幾種泵結(jié)合，互相補充，才能滿足進氣要求。