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工件的大小對(duì)研磨難度的影響
工件的大小對(duì)研磨難度的影響 由于大工件在研磨時(shí),所磨的面積比小工件要大很多,所以選擇的研磨盤(pán),壓重塊等肯定也是要大很多的。大面積的工件在固定和加壓時(shí),如果稍微有一點(diǎn)點(diǎn)受力不均勻,所受到的張力也就越大,容易產(chǎn)生斷裂。而小工件,這種壓力點(diǎn)不均勻的概率遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于大尺寸工件,并且小工件平放受壓時(shí)所受張力沒(méi)那么大,不容易碎。 其次,我們進(jìn)行對(duì)比論證:400mm直徑的工件和30mm直徑的工件同時(shí)放在研磨拋光機(jī)上進(jìn)行研磨,面積小的比面積大的受力均勻,切削速度也要快一倍。而面積大的工件,磨削過(guò)程中由于受力面廣,效果不均勻的概率要大,所以更加難以實(shí)現(xiàn)效果。 后,我們舉一個(gè)實(shí)際的例子來(lái)進(jìn)行后說(shuō)明:我們從實(shí)驗(yàn)室拿兩塊厚度均等的硅片來(lái)做實(shí)驗(yàn),硅片1,直徑500mm厚度1mm,硅片2,直徑20mm,厚度1mm,將他們同時(shí)放到13-6B雙面研磨機(jī)上進(jìn)行研磨。要求效果:平面度2u,平行度:2u,鏡面效果。開(kāi)啟設(shè)備后,采用相同的研磨耗材對(duì)兩塊工件同時(shí)研磨,在研磨10分鐘后,硅片1,表面三項(xiàng)指標(biāo)均為達(dá)到;硅片2,達(dá)到。 由此三點(diǎn),我們得出大小工件研磨難度有著很大差異性。在研磨要求均等的情況下,大工件較難實(shí)現(xiàn)一些,且所花的時(shí)間更長(zhǎng)一些。而小工件則較易實(shí)現(xiàn),研磨效率也要高于大尺寸工件。
平面研磨機(jī)加工中砂帶出現(xiàn)堵塞的解決辦法
平面研磨機(jī)加工中砂帶出現(xiàn)堵塞的解決辦法 平面研磨機(jī)中砂帶在進(jìn)行研磨軟質(zhì)材料,鋁、銅以及鋁合金、銅合金材質(zhì),加工的時(shí)候,比較容易出現(xiàn)磨屑堵塞砂帶表面的現(xiàn)象,砂帶的壽命通常會(huì)由于磨粒的脫落而出現(xiàn)結(jié)束,由于磨屑出現(xiàn)堵塞會(huì)使整個(gè)砂帶表面出現(xiàn)磨削能力下降。 終究磨粒失掉切削效果,砂帶的接頭會(huì)呈現(xiàn)阻塞而使外表產(chǎn)生異狀波紋,磨削力會(huì)以接連曲線(xiàn)方式會(huì)呈現(xiàn)下降,呈現(xiàn)阻塞也會(huì)以緩狀接連的曲線(xiàn)方式呈現(xiàn)。形成這種平面研磨機(jī)砂帶呈現(xiàn)阻塞的的主要原因,是因?yàn)槟ハ鲏毫μ?,砂帶磨料的挑選不合適,磨削的溫度過(guò)高,觸摸輪呈現(xiàn)變形過(guò)大或許是形狀差錯(cuò)過(guò)大,會(huì)呈現(xiàn)方位差異,以及老化變形,磨削用量的挑選不妥等多種要素,都會(huì)呈現(xiàn)阻塞的現(xiàn)象,有正常的阻塞,過(guò)早阻塞、縱向部分阻塞、以及接頭部分的阻塞,出現(xiàn)阻塞的原因以及消除這種阻塞的辦法。 1、正常阻塞,是在平面研磨拋光機(jī)加工中呈現(xiàn)的正常阻塞。 2、過(guò)早阻塞的原因有多種,平面研磨拋光機(jī)研磨中壓力過(guò)大,需求下力;砂帶的粒度使其壓力過(guò)大,也需求下降研磨壓力;對(duì)加工工件來(lái)說(shuō),挑選的砂帶粒度不合適,需求選用正確的粒度;粘膠的硬度不合適或許是呈現(xiàn)老化,需求替換壓磨板;砂帶的溫度過(guò)高,需求恰當(dāng)?shù)目菰铮陆瞪皫囟取?3、砂帶的單側(cè)呈現(xiàn)過(guò)早阻塞,主要是因?yàn)榕c工作臺(tái)的平行度呈現(xiàn)差異,需求調(diào)整兩者之間的平行度;壓板的某些部分呈現(xiàn)缺點(diǎn)等都需求查看、修整或許及時(shí)替換。 4、砂帶呈現(xiàn)縱向部分阻塞,都需求及時(shí)的查看修整以及替換。 5、砂帶接頭部分呈現(xiàn)阻塞,砂帶的接頭厚度超過(guò)一定外表,有用的研磨殘存率變小,柔軟度下降,都會(huì)呈現(xiàn)阻塞,需求查看其接頭的厚度、質(zhì)量以及接頭本身的柔軟度。
淺談雙面研磨機(jī)采用不同的研磨方式對(duì)平行度的影響
淺談雙面研磨機(jī)采用不同的研磨方式對(duì)平行度的影響 在雙面研磨機(jī)上有兩種不同的研磨方式:種:離散研磨,第二種:固結(jié)研磨。這兩種不同的研磨方式是市場(chǎng)上運(yùn)用廣的,固結(jié)研磨多用于單平面研磨,而離散研磨多用于雙平面研磨中。由于原理不同,兩種方式所呈現(xiàn)出來(lái)的優(yōu)劣勢(shì)各不相同,對(duì)工件表面精度的影響也存在差異。 離散型研磨,上下兩個(gè)研磨盤(pán)先進(jìn)行相互研磨,然后對(duì)工件進(jìn)行研磨,三者分別有不同的研磨軌跡,工件研磨終是三種運(yùn)動(dòng)軌跡的結(jié)合。運(yùn)動(dòng)軌跡比較復(fù)雜,不會(huì)發(fā)生重合,所以隨著時(shí)間的增加,工件的兩個(gè)表平面平行度逐步提升,終能達(dá)到非常高的平行度。 相對(duì)而言,在固結(jié)研磨中,研磨機(jī)上的磨盤(pán)和磨片表面雖然能修整到較高的平行度,但是由于工件是粘貼在磨盤(pán)上的,粘貼劑有一定的厚度和誤差,這將一定程度影響工件的平行度。而且,固結(jié)研磨的研磨軌跡是磨盤(pán)和工件兩種運(yùn)動(dòng)軌跡的結(jié)合,工件外側(cè)的線(xiàn)速度大于內(nèi)側(cè)線(xiàn)速度,外側(cè)研磨量比內(nèi)側(cè)研磨量要大,隨著時(shí)間的增加,很容易導(dǎo)致工件內(nèi)凸外陷,所以工件的平行度誤差相對(duì)也較大。
平面拋光機(jī)與平面研磨機(jī)的特點(diǎn)有什么不同
平面拋光機(jī)與平面研磨機(jī)的特點(diǎn)有什么不同 拋光和研磨是同一種機(jī)械運(yùn)動(dòng),基本工作原理大致一樣。拋光則分為精拋,粗拋,研磨分為精磨,粗磨。不過(guò)對(duì)于表面光潔度而言,拋光的表面質(zhì)量比研磨確實(shí)要更高一些。工件表面的平面度,平行度,粗糙度都是根據(jù)客戶(hù)精度要求生產(chǎn)制作,具體的要看工件表面本身的質(zhì)量,以及客戶(hù)要求達(dá)到的質(zhì)量。 平面研磨機(jī)的主要類(lèi)型有圓盤(pán)式研磨機(jī)、轉(zhuǎn)軸式研磨機(jī)和各種專(zhuān)用研磨機(jī)。研磨盤(pán)平面度是研磨的基準(zhǔn),是得到精密工件平面的保證。在研磨的過(guò)程中,研磨盤(pán)的平面度會(huì)下降,主要原因研磨盤(pán)的內(nèi)外線(xiàn)速度不同,磨損不一致造成。 研磨盤(pán)需定期修整平面。修整的方法有兩種:1是采用基準(zhǔn)平面電鍍金剛石修整輪來(lái)修面,由于電鍍金剛石修整輪基本不磨損,可得到較高的平面度。2是通過(guò)修整機(jī)構(gòu)修面后,也可獲得較好的平面度,這種修整的原理與車(chē)床原理一致,研磨盤(pán)旋轉(zhuǎn),一個(gè)可前后運(yùn)動(dòng)的刀在刀桿的帶動(dòng)對(duì)研磨進(jìn)行切削獲得平面。 研磨拋光機(jī)采用間隔式自動(dòng)噴液裝置,可自由設(shè)定噴液間隔時(shí)間。工件加壓采用氣缸加壓的方式,壓力可調(diào);拋光后工件表面光亮度高、無(wú)劃傷、無(wú)料紋、無(wú)麻點(diǎn)、不塌邊、平面度高等特點(diǎn)。拋光后工件表面粗糙度可達(dá)到Ra0.0002;平面度可控制在±0.002mm范圍內(nèi)。采用PLC程控系統(tǒng),觸摸屏操作面板,研磨盤(pán)轉(zhuǎn)速與定時(shí)可直接在觸摸屏上輸入。適應(yīng)對(duì)工件的平面進(jìn)行拋光處理。