等離子干法刻蝕技術(shù)是利用等離子體進(jìn)行薄膜微細(xì)加工的技術(shù)。在典型的干法刻蝕工藝過程中，一種或多種氣體原子或分子混合于反應(yīng)腔室中，在外部能量作用下（如射頻、微波等）形成等離子體，干法刻蝕技術(shù)由于具有良好的各向異性和工藝可控性已被廣泛應(yīng)用于微電子產(chǎn)品制造領(lǐng)域，憑借在等離子體控制、反應(yīng)腔室設(shè)計(jì)、刻蝕工藝技術(shù)、軟件技術(shù)的積累與創(chuàng)新，北方華創(chuàng)微電子在集成電路、半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng)、先進(jìn)封裝、功率半導(dǎo)體等領(lǐng)域可提供高端裝備及工藝解決方案。形成了對(duì)硅、介質(zhì)、化合物半導(dǎo)體、金屬等多種材料的刻蝕能力，其中應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域的硅刻蝕機(jī)已突破14nm技術(shù)，進(jìn)入主流芯片代工廠，其余各類產(chǎn)品也憑借其優(yōu)異的工藝性能成為了客戶的。

濟(jì)南藍(lán)光同茂廣告標(biāo)牌設(shè)備公司

公司的全自動(dòng)環(huán)保蝕刻機(jī)成功應(yīng)用于濟(jì)南重汽,特變電工, 濟(jì)南泉城廣場(chǎng),山東大學(xué),山東農(nóng)業(yè)大學(xué),電力集團(tuán)等。設(shè)備銷往世界各地：迪拜、泰國、越南、印尼、新加坡、西班牙等，公司主營(yíng)：蝕刻機(jī),標(biāo)牌機(jī),腐蝕機(jī),大型熱轉(zhuǎn)印機(jī),立體玻雕機(jī)、印刷設(shè)備等全系列新型數(shù)控標(biāo)識(shí)設(shè)備、技術(shù)開發(fā)、專業(yè)培訓(xùn)，是數(shù)碼標(biāo)識(shí)配套設(shè)備供應(yīng)商，公司產(chǎn)品連續(xù)多年榮獲山東消費(fèi)者滿意單位稱號(hào)。

這倆機(jī)器的解釋就是光刻機(jī)把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面,刻蝕機(jī)再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉,這樣看起來似乎沒什么難的,但是有一個(gè)形象的比喻,每一塊芯片上面的電路結(jié)構(gòu)放大無數(shù)倍來看比整個(gè)北京都復(fù)雜,這就是這光刻和蝕刻的難度

蝕刻

薄金屬卡片的制作,主要采用蝕刻的工藝來完成。

它的蝕刻原理是：蝕刻機(jī)中的三氯化鐵溶液，沖刷暴露著的銅材表面，三氯化鐵溶液中的三價(jià)鐵離子會(huì)快速氧化、蝕刻這部分暴露著銅材，我們用微距拍攝可以清晰地看到，局部的銅材被蝕刻液一點(diǎn)點(diǎn)地蝕刻。

自動(dòng)型蝕刻機(jī)：1、 如今市場(chǎng)上所見到的自動(dòng)型化學(xué)蝕刻機(jī)是通過高壓噴淋及被蝕刻板直線運(yùn)動(dòng)形成連續(xù)不間斷進(jìn)料狀態(tài)進(jìn)行對(duì)工件腐蝕以提高生產(chǎn)效率；2、加大了噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度，無論在蝕刻效果、速度和改善操作者的環(huán)境及方便程度，都優(yōu)于潑濺式蝕刻；

光刻機(jī)和刻蝕機(jī)的區(qū)別:

刻蝕相對(duì)光刻要容易。光刻機(jī)把圖案印上去，然后刻蝕機(jī)根據(jù)印上去的圖案刻蝕掉有圖案（或者沒有圖案）的部分，留下剩余的部分。

“光刻”是指在涂滿光刻膠的晶圓（或者叫硅片）上蓋上事先做好的光刻板，然后用紫外線隔著光刻板對(duì)晶圓進(jìn)行一定時(shí)間的照射。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質(zhì)，易于腐蝕。

“刻蝕”是光刻后，用腐蝕液將變質(zhì)的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導(dǎo)體器件及其連接的圖形。然后用另一種腐蝕液對(duì)晶圓腐蝕，形成半導(dǎo)體器件及其電路。