顯影質(zhì)量的因素有顯影液濃度、顯影溫度、顯影時(shí)間等。在其他條件不變zhi的前提下，顯影液濃度越大，顯影速度越快。但如果顯影液濃度過大，對(duì)圖文基礎(chǔ)的腐蝕性過強(qiáng)，容易造成網(wǎng)點(diǎn)縮小、殘損、亮調(diào)小網(wǎng)點(diǎn)丟失以及使感光膠層減薄、強(qiáng)度下降，導(dǎo)致印刷著墨性能降低、耐印力下降。同時(shí)會(huì)腐蝕和破壞空白部位的氧化膜和封孔層，導(dǎo)致版面出現(xiàn)發(fā)白現(xiàn)象，使印版的親水性和耐磨性變差。

若干膜超過有效期使用，這層粘結(jié)劑就會(huì)失效，在貼膜后的電鍍過程中夾失保護(hù)作用，形成滲鍍。解決的方法就是在使用前認(rèn)真檢查干膜的有效使用周期。溫度與濕度對(duì)貼膜的影響：不同的干膜都有比較適宜的貼膜溫度。所使用的為水熔性干膜，空氣中的濕度對(duì)其影響較大。當(dāng)濕度較大時(shí)，干膜的粘結(jié)劑在貼膜溫度較低時(shí)可達(dá)到良好的粘結(jié)效果。


從光能量的定義公式可知，總曝光量E是光強(qiáng)度I和曝光時(shí)間T的乘積。若光強(qiáng)度I不變，則曝光時(shí)間T就是直接影響曝光總量的重要因素。曝光不足時(shí)，由于聚合不徹底，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導(dǎo)致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結(jié)合不良；顯影不良：貼好的干膜后的覆銅箔層壓板經(jīng)曝光之后，還須經(jīng)過顯影機(jī)顯影，將未曝光的干膜保持原成份，在顯影機(jī)內(nèi)與顯影液發(fā)生下列反應(yīng)。


照相底片反差不夠。照相底片的質(zhì)量好壞，可采用光密度表示：底片黑的部分光密度高；透明的部分光密度小，兩者之間差值越大越好，即稱之謂反差好。如果照相底片本身反差不夠，會(huì)直接影響到曝光時(shí)間的控制。如果某些用于圖形轉(zhuǎn)移的陽(yáng)片，不透明部分光密度不夠高，直接影響到覆蓋下的干膜也會(huì)發(fā)生明顯的光聚合反應(yīng)，而且產(chǎn)生較大面積的余膠。所以，要嚴(yán)格控制照相底片的質(zhì)量。