濺射鍍膜技術(shù)是用離子轟擊靶材表面，濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體表面形成PVD涂層。通常是利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離，其正離子在電場(chǎng)作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成PVD涂層。磁控濺射鍍膜技術(shù)是在濺射鍍膜基礎(chǔ)上發(fā)展而來(lái)，與濺射鍍膜相比，沉積速率更快，涂層致密且與基體附著性好。

真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過(guò)程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過(guò)程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

佛山市錦城鍍膜有限公司積極打造一支的研發(fā)人員何技術(shù)工人隊(duì)伍。我司奉行“質(zhì)量就是生存，服務(wù)就是發(fā)展”的宗旨，顧客就是上帝，需求就是命令，用心的服務(wù)換取客戶(hù)的肯定。在鍍膜過(guò)程中需要對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行加熱，將會(huì)有大量吸附在金屬或介質(zhì)中的氣體放出，這樣真空度回急劇下降，將嚴(yán)重地影響膜層質(zhì)量。為了避免鍍膜時(shí)大量氣體放出，所以在開(kāi)鍍膜時(shí)，事先需在高真空下將待蒸發(fā)的材料進(jìn)行熱處理。