溫差控制及雙溫差控制

   在精密精餾中，產(chǎn)品純度要求很高，組分間的相對(duì)揮發(fā)度差值很小，因而組分變化不大，然而微小的壓力波動(dòng)會(huì)造成明顯的溫度變化。這樣，就破壞了溫度和組分間的對(duì)應(yīng)關(guān)系。此時(shí)，采用溫度作為被控變量的提餾段和精餾段溫度控制就得不到很好的效果，而應(yīng)當(dāng)采用溫差控制。概述：1、本設(shè)備有間歇式和連續(xù)式兩種形式，主要由塔釜、塔身、冷凝器、平衡罐、流量計(jì)等部件組成。

  采用溫差作為被控變量通?？梢栽谒敚ɑ蛩祝└浇囊粔K塔板上檢測(cè)出該板溫度，再檢測(cè)出靈敏板上的溫度，由于壓力的波動(dòng)對(duì)每塊板的溫度影響基本相同，只要將上述檢測(cè)到的兩個(gè)溫度值相減，壓力的影響幾乎相互抵消。在實(shí)際應(yīng)用中，溫差控制的關(guān)鍵是正確選擇測(cè)溫點(diǎn)，合理給出溫差設(shè)定值。這是因?yàn)闇囟扰c產(chǎn)品成分之間的關(guān)系不是線性的，同一溫差在不同條件下可以有兩個(gè)不同的組分。圖18是正丁烷和異丁烷分離塔的溫差和塔底產(chǎn)品中輕組分濃度的關(guān)系示意圖。由圖可見(jiàn)，曲線除1高點(diǎn)外，每一溫差都有兩個(gè)不同的組分濃度。1高點(diǎn)左側(cè)部分對(duì)應(yīng)的塔底產(chǎn)品純度較高，而右側(cè)則較低。作為分散相的溶液由進(jìn)液口6進(jìn)入至動(dòng)盤中心，隨后被一系列高速旋轉(zhuǎn)的動(dòng)折流圈反復(fù)甩向靜折流圈，最后在殼體內(nèi)收集后由出液口9引出回收。因此，溫差的工作點(diǎn)應(yīng)位于曲線的左側(cè)。

  精餾塔是精餾法提純四、的主要設(shè)備，它由塔釜、塔柱和塔頭三部分組成。精餾塔有多種。（1）按材料分。按材料分，常見(jiàn)的有三種：石英玻璃精餾塔、不銹鋼精餾塔和不銹鋼聚四氟塑料襯里精餾塔。則從物料平衡和能量關(guān)系出發(fā)，可得出它的總的物料平衡關(guān)系為F=D＋B（9）輕組分的物料平衡關(guān)系為Fz＝Dy＋Bx（10）式中，F(xiàn)、D和B分別為進(jìn)料量、頂部餾出物量和塔底產(chǎn)品。    酒精精餾塔是石油及化工生產(chǎn)中重要的設(shè)備之一，通過(guò)氣（或汽）液或液液兩相的緊密接觸，達(dá)到相間傳質(zhì)和傳熱的目的，實(shí)現(xiàn)混合物系的分離提純。

   精餾塔是提純用的,是直接與三諷氫硅或四接觸的設(shè)備,它的清潔程度直接關(guān)系到三氫硅或四的質(zhì)量。因此,它的清洗是非常重要的。新的精餾塔,在制造、儲(chǔ)存、運(yùn)輸和安裝過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生大量的污物。這些污物主要有油脂、軋制鱗片、氧化皮、泥沙、焊渣、焊藥、防銹油及表面涂層等。在一定的純度要求下，增加塔內(nèi)的上升蒸汽是有利于提高產(chǎn)品回收率的。    多晶硅生產(chǎn)對(duì)環(huán)境及設(shè)備的清潔要求十分嚴(yán)格,尤其是對(duì)精餾塔。