真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求

真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。

這兩個方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。眾所周，油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當(dāng)大量抽除可凝性氣體時，對泵油的污染會更加嚴(yán)重，結(jié)果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。

工業(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區(qū)分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個一個計數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態(tài)均可統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標(biāo)準(zhǔn)，從而定制出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的工業(yè)部門，也適合于真空對潔凈環(huán)境的要求。

真空鍍膜機的陰極電弧技術(shù)

真空鍍膜機的陰極電弧技術(shù)是利用真空環(huán)境下的弧光放電，使固體陰極靶材蒸發(fā)、離化并通過等離子體的強化作用，飛向陽極基體表面沉積成膜的技術(shù)。正因為如此，陰極電弧技術(shù)具有極高的沉積速率。

在含有惰性氣體或反應(yīng)氣體的真空環(huán)境下沉積在基體表面，具有高能量的離子束對于提高膜基結(jié)合力和打亂膜的柱狀晶結(jié)構(gòu)是非常有利的，從而也可大幅度改善膜的組織結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能。目前，各薄膜設(shè)備制造商通過對成膜原理和工藝的研究采用各種不同的措施來減少“液滴”的產(chǎn)生。

其中BAI1200、RCS是采用圓形平面陰極源技術(shù)和輻射加熱技術(shù),可進行快速鍍膜生產(chǎn)。利用該工藝制備的TiAlN可增強加工工具切削刃的穩(wěn)定性，并使干切削加工成為可能。

真空鍍膜設(shè)備選購要點分析

真空鍍膜設(shè)備選購要點分析如下：

1、爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。

2、根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應(yīng)濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。

3、夾具運轉(zhuǎn)形式有自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn) 自轉(zhuǎn)方式，用戶可根據(jù)基片尺寸及形狀提出相應(yīng)要求，轉(zhuǎn)動的速度范圍及轉(zhuǎn)動精度：普通可調(diào)及變頻調(diào)速等。

4、真空系統(tǒng)由機械泵、擴散泵、油增壓泵、增擴泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。

5、根據(jù)工藝要求選擇鍍制方式及形式，如電阻蒸發(fā)（鎢絲、鉬舟、石墨舟）磁控源（同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材質(zhì)及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直徑靶材，氣動、電動的引弧等），真空測量可選擇數(shù)字式智能真空計及其的測量規(guī)管，及其它測量儀器，如自動壓強控制儀等。膜厚測量可選用方塊電阻測量儀，透過率計等。

6、充氣方式可選用質(zhì)量流量計、浮子流量計 針閥及相應(yīng)的充氣閥門，并可選擇多路充氣管路及相應(yīng)流量參數(shù)。

7、根據(jù)需烘烤的結(jié)構(gòu)提出烘烤溫度、材質(zhì)以及所需配備相應(yīng)儀表測量。

8、根據(jù)設(shè)備使用特點，可選擇手動、半自動、全自動或其組合的控制方式。

9、完善的報警系統(tǒng)，對真空室體、擴散泵斷相、缺水、氣壓、電源負(fù)載的過壓、過流等異常情況進行聲光報警。