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鎂合金微弧氧化標(biāo)準(zhǔn)可量尺定做【日照微弧技術(shù)】

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發(fā)布時(shí)間:2021-01-17 10:43  






       由于鎂合金微弧陶瓷復(fù)合處理技術(shù)繼承了微弧氧化工藝的普遍優(yōu)點(diǎn),無需對(duì)工件進(jìn)行復(fù)雜的前處理,大大減少了污水排放,而且處理過程中無環(huán)保限制元素加入,實(shí)現(xiàn)了對(duì)環(huán)境的零污染。經(jīng)過劇烈的微弧氧化處理之后,鋁、鎂、鈦及其合金的表面上會(huì)形成數(shù)十或數(shù)百微米的陶瓷層。另微弧復(fù)合處理周期短,生產(chǎn)及日常維護(hù)成本低廉,可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制生產(chǎn),生產(chǎn)并且極大節(jié)約了人力資源成本,使其規(guī)模化裝備制造業(yè)已無后顧之憂。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化工藝



微弧氧化時(shí)間對(duì)表莫粗糙度的影響

       微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度隨著氧化時(shí)間的延長近似呈線性增長。這是由于氧化膜的表面粗糙度與膜層的厚度有直接關(guān)系,而膜層的增厚過程是在極高的能量條件下陶瓷膜的重復(fù)擊穿過程。3、溶液酸堿度:酸堿度過大或過小,溶解速度都加快,氧化膜生長速度減慢,所以一般選擇弱堿性溶液。在氧化初期,作用在膜層上的能量較低,產(chǎn)生的熔融物顆粒較少,膜層的表面粗糙度較低;隨著時(shí)間的延長,膜層表面的能量密度逐漸增大,熔融的氧化產(chǎn)物增多,并通過微孔噴射到表面。在電解液液淬作用下,氧化物冷卻凝固,并發(fā)生多次擊穿。在這種熔融、凝固、再熔融、再凝固的過程中,產(chǎn)生的氧化物顆粒黏附在陶瓷層表面的數(shù)量增多,從而增大了膜層表面的粗糙度。另外,在成膜過程中同時(shí)存在氧化膜的溶解過程,因此,若時(shí)間足夠長,膜層在溶解過程中其表面粗糙度也會(huì)出現(xiàn)小幅度的下降。



     微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)

(1)氧化膜具有陶瓷結(jié)構(gòu)特征。

(2)原位生長。

(3)氧化膜均勻增厚。

(4)無污染:無環(huán)保限制元素加入,基本無廢水排放。

          制備工藝簡單。

(5)表面硬度高,顯微硬度在400至1500HV;

(6)耐磨損性能與硬質(zhì)合金相當(dāng);

(7)耐腐蝕性能:鹽霧試驗(yàn)鋁合金1000-2000小時(shí) ;鎂

        合金經(jīng)封孔后耐鹽霧可達(dá)1000小時(shí)以上。

(8)耐熱性能:300℃水中淬火35次未見變化,1300℃

         沖擊5次不脫落、不龜裂。

(9)絕緣性能:膜厚不同,表面電阻達(dá)  109-12Ω


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