微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強，絕緣性好，膜層與基底金屬結合力強，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化技術工藝處理能力強，可通過改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層以滿足不同目的的需要；也可通過改變或調節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色；對于粗糙度較高的工件，經微弧氧化處理后表面得到修復變得更均勻平整。還可采用不同的電解液對同一工件進行多次微弧氧化處理，以獲取具有多層不同性質的陶瓷氧化膜層。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化

微弧氧化技術的應用  

       微弧氧化膜由于具有抗磨損、耐腐蝕、高介電和隔熱等特性，應用在許多領域。如，航空、航天、汽車、船舶、機械、石油、化工、、電子等行業(yè)。盡管微弧氧化技術已經在這些方面有些應用，并且呈現(xiàn)新的應用前景，但是推廣應用的力度還不夠，這里包括技術和經濟等多方面原因，有待于我們進一步深入研究。微弧氧化微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過電解液與相應電參數(shù)的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產線

微弧氧化抹的特點

       微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強，絕緣性好，膜層與基底金屬結合力強，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化的合適放電區(qū)間較窄，要求對放電后的電參數(shù)控制比較好，大電流、高電壓對供電電源提出了高要求，由于對微弧氧化本質認識限制，使得電源的設計及制造仍停留在經驗摸索層面上，帶有很大的盲目性。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

微弧氧化的發(fā)展

      由于微弧氧化是在陽極氧化膜被電ji穿的基礎上進行的，所以在探討微弧氧化機理時我們要結合電ji穿理論的研究和發(fā)展，從而闡述微弧氧化基本原理。微弧氧化技術就是在電ji穿理論的基礎上加以研究和應用的新型表面力一技術。微弧氧化的工藝研究主要集中在電流密度、電解液組成、電源模式、基材成分等工藝因素對氧化膜的厚度、結構與性能的影響方面。自1932年Betz等觀察到電ji穿的現(xiàn)象以來，許多研究者都對電ji穿產生的原因 過各種各樣的假設和模型。總體上看，電ji穿理論經歷了離子電流機理、熱作用機理、機械作用機理以及電子雪崩機理等不同的發(fā)展階段。了解電ji穿原理，對于研究微弧氧化機理，開發(fā)新的表面處理技術均有著重要的理論意義。