微弧氧化使用范圍

       由于微弧氧化技術具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強，生產(chǎn)，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點，因此在機械，汽車，，電子，航天航空及建筑民用等工業(yè)領域有著極其廣泛的應用前景。微弧氧化技術為提高鋁材料的表面性能，常用的方法有電鍍，激光，陽極氧化等，其中微弧氧化技術是基于陽極氧化發(fā)展起來的一種先進的表面強化處理技術。主要可用于對耐磨、耐蝕、耐熱沖擊、高絕緣等性能有特殊要求的鋁基零部件的表面強化處理；同時也可用于建筑和民用工業(yè)中對裝飾性和耐磨耐蝕要求高的鋁基材的表面處理。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術

       微弧氧化產(chǎn)生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉(zhuǎn)變和結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。微弧氧化技術采用微弧氧化技術對鋁及其合金材料進行表面強化處理，具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強，生產(chǎn)效率高，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點。在微弧氧化的過程下，原來生產(chǎn)的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時間的延長，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應的厚度。經(jīng)測試，微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。微弧氧化技術優(yōu)勢、微弧氧化設備、微弧氧化電源

微弧氧化

       在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全描述陶瓷層的形成。在開通電源后，正脈沖電壓快速升高，電流迅速下降，作為陽極的待氧化試樣開始進行陽極氧化,產(chǎn)生大量微小氣泡，同時在試樣表面形成了一層極薄的鈍化膜。微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，克服了硬質(zhì)陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。