微弧氧化槽液

       微弧氧化主要針對(duì)鋁、鎂、鈦、等閥金屬（閥金屬是指在電解液中起到電解閥門(mén)作用的金屬）。微弧氧化處理可在酸性和堿性電解液中進(jìn)行，但由于酸性電解液對(duì)環(huán)境污染性較大現(xiàn)已較少使用。常用堿性電解液體系包括硅酸鹽體系、磷酸鹽體系、鋁酸鹽體系等，在單一或者它們的復(fù)合電解液中，增加各種添加劑如鎢酸鹽、鉬酸鹽等，以達(dá)到提高膜層生長(zhǎng)速率和致密性等或者功能性膜層的目的。微弧氧化技術(shù)就是在電ji穿理論的基礎(chǔ)上加以研究和應(yīng)用的新型表面力一技術(shù)。微弧氧化處理應(yīng)根據(jù)基體材料的種類(lèi)選用合適的電解液體系。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)

微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；在考慮簡(jiǎn)化電源結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，采用復(fù)合功率轉(zhuǎn)換電路的形式，即由前級(jí)向后級(jí)供電，由后級(jí)控制電流的設(shè)計(jì)方案。溫度為20～50℃；陰極材料為不銹鋼板；電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽(yáng)極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽(yáng)極電流氧化5min；但是普通的低溫釉工藝，燒結(jié)溫度高達(dá)900度，鋁鎂金屬的熔點(diǎn)是600多度，因此嚴(yán)重制約了微弧氧化后處理的發(fā)展，對(duì)終端消費(fèi)品外殼的客戶來(lái)說(shuō)，彩色是必備的選擇。第二步：將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽(yáng)極電流氧化15min。陰極材料為：不銹鋼板；溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化

       在微弧氧化過(guò)程中，化學(xué)氧化、電化學(xué)氧化、等離子體氧化同時(shí)存在,因此陶瓷層的形成過(guò)程非常復(fù)雜,至今還沒(méi)有一個(gè)合理的模型能全描述陶瓷層的形成。微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽(yáng)極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，克服了硬質(zhì)陽(yáng)極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化電源因電壓要求較高(一般在510—700V之間)，需專(zhuān)門(mén)定制。微弧氧化膜層與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。