真空鍍膜設備背壓檢漏法

背壓檢漏法是一種充壓檢漏與真空檢漏相結合的方法，真空鍍膜設備中多用于封離后的電子器件、半導體器件等密封件的無損檢漏技術中。

其檢漏過程基本上可分為充壓、凈化和檢漏三個步驟。

(1)充壓過程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內存放一定時間，如被檢件有漏孔，示漏氣體就可以通過漏孔進入被檢件的內部，并且將隨浸泡時間的增加和充氣壓力的升高，被檢件內部示漏氣體的分壓力也必然會逐漸升高。

(2)凈化過程是采用干燥氮氣流或干燥空氣流在充壓容器外部或在其內部噴吹被檢件。

如不具備氣源時也可使被檢件靜置，以便去除吸附在被檢件外表面上的示漏氣體。

在凈化過程中，因為有一部分氣體必然會從被檢件內部經漏孔流失，從而導致被檢件內部示漏氣體的分壓力逐漸下降，而且凈化時間越長，示漏氣體的分壓降就越大。

(3)檢漏過程則是將凈化后的被檢件放入真空室內，將檢漏儀與真空室相連接后進行檢漏。

抽真空后由于壓差作用，示漏氣體即可通過漏孔從被檢件內部流出，然后再經過真空室進入檢漏儀，按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。

真空鍍膜機冷卻配套冷水機的作用

真空鍍膜機冷卻配套冷水機的作用是維持真空鍍膜機器的溫度，使其工作達到、率控制溫度的目的。以前在沒冷水機的情況下，自然水和水塔散熱都不可避免地受到自然氣溫的影響，而且此方式控制是極不穩(wěn)定的。因此，可以說冷水機是真空鍍膜設備中非常重要的配套冷卻設備，因為冷水機直接關系到真空鍍膜機工作效果的好壞。

真空鍍膜機為什么要配套冷水機？

這個要從真空鍍膜工作原理查看：膜料在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜料分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮，如果真空度不高結晶體就會失去光澤，結合力也很差。

冷水機設有制冷系統(tǒng)和冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，水溫在5℃～30℃范圍內調節(jié)控制，可以達到、率控制溫度的目的。其冷卻原理是：制冷系統(tǒng)將水冷卻，再由水泵將低溫冷卻水送入真空鍍膜機進行降溫，冷水機冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱，達到冷卻的作用。

現代真空鍍膜機膜厚測量及監(jiān)控方法

涂層的鍍膜機控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法，該儀器可以直接驅動的蒸發(fā)源，通過PID控制回路傳動擋板，使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接，它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準確性是有限的，鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學厚度的涂層質量。

此外，雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中，鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區(qū)域，導致薄膜的重大錯誤。光學監(jiān)測是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式，鍍膜機這是因為它能準確控制膜的厚度(如果使用得當)。

精度的提高，由于許多因素，但根本的原因是光學厚度的監(jiān)測。optimalswa-i-05單一波長的光學監(jiān)測系統(tǒng)，是間接控制，鍍膜機先進的光學監(jiān)測軟件結合王博士的發(fā)展，有效地改善和靈敏度變化的光反應的膜厚度的減少終的誤差的理論方法，提供監(jiān)測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。

真空鍍膜設備冷水機有什么作用？

真空冷水機廣泛應用于工業(yè)制冷，它能提供恒流、恒溫、恒壓，控制真空電鍍設備的溫度，不同工藝流程需要控制不同的溫度，真空電鍍設備中冷水機可以分為風冷式的冷水機和水冷式的冷水機，水冷式冷水機達到好的冷卻效果加冷卻水塔，風冷式冷水機對工作環(huán)境有要求，它通過熱風循環(huán)制冷，通風效果的好壞直接影響到冷水機的制冷效果。

冷水機應當具備水溫調節(jié)控制能力，不受氣溫及環(huán)境影響；性能要穩(wěn)定，保證長年連續(xù)運轉情況下不出現故障；節(jié)能省電，有自我調節(jié)功能，有效節(jié)約電；噪音要低，應當有缺相、錯相、電流過載、高低壓保護系統(tǒng)。真空電鍍設備配備冷水機是為了達到率、控制溫度的目的以保證鍍件的高質量，增加鍍件的密度和平滑，縮短電鍍周期，提高生產效率和改善產品的質量。

真空電鍍設備專用的冷水機主要組成有：壓縮機，貯液器，干燥過濾器，熱力膨脹閥，蒸發(fā)器，制冷劑，冷凝器。壓縮機是心臟，冷水機制冷系統(tǒng)通過壓縮機輸入電能，將熱量沖低溫環(huán)境排放到高溫環(huán)境，制冷壓縮機決定整個系統(tǒng)的效率。貯液器安裝在冷凝器后面，于冷凝器的排液管直接連通，貯液器起到調劑和貯存制冷劑的作用。