PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。近十多年來(lái)，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今zui先進(jìn)的表面處理方式之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

具有摩擦系數(shù)較低，耐磨損，膜層應(yīng)力小好等優(yōu)點(diǎn)。用途：潤(rùn)滑涂層，成型模具，鋁合金等粘結(jié)性強(qiáng)材料沖壓模具。⑥ZrN：ZrN不含Ti和Cr的單成膜，有較高的耐熱性，涂層顏色艷麗，在加工鋁鈦合金時(shí)可有效減少切削瘤（積屑瘤）。⑦AL（L）:zui新劈裂電弧涂層，含Si納米復(fù)合涂層，極高抗熱性能，適合硬切削，納米硬度4300Hv，納米厚度1~3μm。摩擦系數(shù)0.3。zui高應(yīng)用溫1200℃。加工硬度可達(dá)65HRC。用途：特適合加工淬火、鋼淬火硬鋼、不銹鋼、沉淀硬化不銹鋼。⑧MDT：zui新劈裂電弧涂層，納米厚度1-3μm，加工硬度可達(dá)58HRC。用途：特適合加工不銹鋼、鈦合金、沉淀硬化不銹鋼、銅合金、鋁合金。

鋁是熱鍍鋅中zui常用的添加元素。在鋅液中添加不同濃度的鋁可以獲得不同性質(zhì)的鍍鋅層。

一般認(rèn)為熱鍍鋅時(shí)，在鋅液中加入<1%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)，下同)的鋁可以起到下列作用：①提高鍍層光亮性;②減少鋅液面的氧化;③抑制脆性Fe—Zn相的形成而獲得粘附性好的鍍層。而在實(shí)際生產(chǎn)中，鋅液中含有0.005%～0.020%Al就可以達(dá)到鍍層光亮的目的，并可減少鋅液表面的氧化和鋅灰的產(chǎn)生。

采用Zn—Al中間合金的添加方式m往往由于添加的中間合金的質(zhì)量問(wèn)題以及添加鋁和鋅鋁合金的方法不當(dāng)或過(guò)快，導(dǎo)致鋅液中形成大量的鋁、鐵化合物，此鋅鋁鐵三元“面渣”或顆粒懸浮在鋅液表面而且十分粘稠，極易粘附在鋼鐵制件上，嚴(yán)重?fù)p害了鍍層質(zhì)量，此時(shí)僅靠降溫?fù)圃菦](méi)用的。