真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理氣相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱真空金屬化。

真空鍍膜廠家告訴你什么是膜色差異

膜色差異有二種（不包含色i斑），一種是整罩上、中、下膜色不一致，即分光測(cè)試曲線有差異；二是單片膜色不一致。?

1．上中下膜色不一致稱為整傘（罩）均勻性不好，也稱有傘差。主要產(chǎn)生原因是均勻性修正板（補(bǔ)正板）有問題。?

2．傘片變形。也是膜色不勻的原因之一，特別是使用了較久的傘片，以往是均勻的，慢慢變得不均勻了，傘片變形就可能是主要原因了。?

3．膜料狀況的不一致，特別是升華和半升華膜料被打偏，挖坑等也會(huì)嚴(yán)重影響整罩和單片的均勻性。特別是有大量手工預(yù)熔時(shí)，各人的操作手法不一，得到的料況也會(huì)不一。?

真空鍍膜的特點(diǎn)是什么？

 1.真空鍍膜可以在固態(tài)基體上鍍制金屬，合金，半導(dǎo)體薄膜及各種化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范圍內(nèi)調(diào)控。

 2.真空鍍膜可以鍍制高純度，高致密度，與基體結(jié)合力強(qiáng)的各種功能薄膜拜。特別是各種金屬五金產(chǎn)品，大規(guī)模集成電路，小分子有機(jī)顯示器件等很多器件所需的主體薄膜只能在真空條件下制備，其他制模技術(shù)無法滿足要求。

 3.真空鍍膜對(duì)環(huán)境無污染，特別是PVD方法。

 4.真空鍍膜是需要有真空設(shè)備來完成的鍍膜，所以成本比較高，但真空鍍膜產(chǎn)品耐磨性好，耐腐蝕，環(huán)保，產(chǎn)品可過ROHS測(cè)試。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空電鍍是利用的什麼原理?

在高真空度的條件下，高純度的鍍層金屬（如鋁）在高溫下蒸發(fā)后會(huì)自由地飛散開并沉降在工件表面，形成鍍層。氣為保護(hù)性氣體，防止氧化反應(yīng)影響鍍層質(zhì)量。