中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)

中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異?；」夥烹?。因此，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時(shí)，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類設(shè)備廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機(jī)殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

鍍膜行業(yè)發(fā)展的趨勢

當(dāng)今鍍膜行業(yè)制作方式主要有兩種，一種是化學(xué)氣象沉積，一種是化學(xué)鍍膜（CVD），一種是物理氣象沉積，也就是真空鍍膜（PVD）。

化學(xué)鍍膜是把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)所需其他氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程。在化學(xué)薄膜的過程中，容易產(chǎn)生溶液污染，如果鍍層表面雜質(zhì)多，鍍出來的效果不好。

化學(xué)鍍膜需要的反應(yīng)溫度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基體材料是無法受此高溫，及時(shí)硬質(zhì)合金，雖然能經(jīng)受高溫，但在化學(xué)鍍膜制作的環(huán)境下由于高溫也會造成晶粒粗大，引起脆性相，性能變壞。如果在硬質(zhì)合金上鍍TiN，晶體擴(kuò)散出來的碳會與溶液發(fā)生反應(yīng)形成脫碳層，該層韌性差，抗彎強(qiáng)度低，造成刀具使用壽命縮短。

真空鍍膜機(jī)很好的解決了化學(xué)鍍膜產(chǎn)生的一系列問題。真空鍍膜是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電技術(shù)，利用其他放電是靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

所有鍍層材料都是在真空環(huán)境下通過等離子體沉積在工件表面，解決了化學(xué)鍍膜中的溶液污染問題，不會產(chǎn)生有毒或污染物質(zhì)，鍍出來的膜層硬度更高，耐磨性和腐蝕性好，性能更穩(wěn)定。真空鍍膜工藝處理的溫度可以控制在150℃~500℃以下，適用于多種基體材料，可制備多姿多彩的膜層，鍍制硬質(zhì)合金刀具可使其壽命提高2~10倍。

裝飾性真空鍍膜設(shè)備涂層的作用和要求

裝飾性真空鍍膜設(shè)備涂層的作用和要求 裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種。為了滿足產(chǎn)品的不同技術(shù)要求，可施涂底涂層和面涂層，或在面涂層上再施涂彩色涂層、保護(hù)涂層等。這些涂層的主要作用是： 提高膜層的結(jié)合力。采用相同的鍍膜方法，在塑料基體上施涂底涂層再真空鍍膜，可提高膜層的結(jié)合力。 降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度。一般鍍件表面都存在微觀不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填補(bǔ)鍍件表面的缺陷，使鍍件表面達(dá)鏡面平整度。 能保護(hù)金屬膜層。真空鍍膜層一般只有100nm，膜層的耐磨性和抗變色能力較差，施涂面涂層后，鍍膜層與外界不直接接觸，對鍍膜層能起保護(hù)作用。

鍍膜機(jī)的鍍膜方式及遇到的問題

鍍膜機(jī)的鍍膜方式及遇到的問題 鍍膜機(jī)是在高真空狀態(tài)下通過高溫金屬熔體鋁蒸發(fā)，鋁蒸鍍到塑料薄膜的表面上，使金屬設(shè)備表面的塑料薄膜。真空鍍膜機(jī)技術(shù)作為一種特定的膜技術(shù)，已廣泛應(yīng)用于實(shí)際生產(chǎn)和生活。 鍍膜機(jī)涂布方法：離子鍍，濺射沉積（1）鍍膜機(jī)：快速成膜0.1—50／min，設(shè)備比較簡單，容易操作；純度高，制備的薄膜；薄膜生長機(jī)制比較簡單。（2）薄膜的附著力較小，結(jié)晶過程是不的，重復(fù)性不夠好。 鍍膜機(jī)鍍產(chǎn)品脫膜是怎么回事？一、.產(chǎn)品的表面清潔度是不夠的，離子源清潔放大的長時(shí)間。二、用清洗劑清洗，或更換清潔劑，鍍膜機(jī)建議使用純凈水試驗(yàn)。三、工藝參數(shù)的變化是否可以在薄膜的厚度和電流進(jìn)行調(diào)整。