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大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹
大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸(1英寸=25.4毫米) 超大規(guī)模集成電路廠(氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等),100MW以上的太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線(氣體種類包括NH3),發(fā)光二極管的磊晶工序線(氣體種類包括NH3)、5代以上液晶顯示器工廠(氣體種類包括4、3、NF3)、光纖(氣體種類包括SiCl4)、硅材料外延生產(chǎn)線(氣體種類包括HCL)等行業(yè)。3、外向檢漏法(吸槍法)應(yīng)采用管路內(nèi)部充氦氣或氦氮混合氣,外部應(yīng)采用吸槍檢查漏點(diǎn)的方法檢漏,測(cè)試管路系統(tǒng)的泄漏率。它們的投資規(guī)模巨大,采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備,用氣需求量大,對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。
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試驗(yàn)室集中供氣系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)
針對(duì)過(guò)去使用中存在的問(wèn)題,現(xiàn)代試驗(yàn)室對(duì)載氣的使用環(huán)境進(jìn)行了改革,即 “集中供氣系統(tǒng)”,即將使用氣體(以下簡(jiǎn)稱載氣)集中貯存,然后通過(guò)壓差的原理將氣體經(jīng)過(guò)金屬或其他材質(zhì)管路送至用氣點(diǎn)。其優(yōu)點(diǎn)主要有以下幾點(diǎn):
1、首先解決氣瓶的放置問(wèn)題。因?yàn)闅馄块g是相對(duì)獨(dú)立的,整個(gè)氣路系統(tǒng)壓力最1大的地方也是氣瓶出口處,因此這種方式將氣瓶壓力可能發(fā)生的危險(xiǎn)縮小至氣瓶間內(nèi),可對(duì)人體及儀器的傷害可降到最1低。氣瓶間的位置如果可能盡量位于與試驗(yàn)室相對(duì)獨(dú)立的房間,如果與試驗(yàn)室在同一大樓內(nèi),則氣瓶間的位置要盡量位于人1流較少并且獨(dú)立的房間,這種方式可使氣瓶與工作人員及儀器完全隔離,即使有害氣體有泄漏,也不會(huì)發(fā)生直接傷害。
2、其次氣體混合的問(wèn)題。將所有載氣氣瓶根據(jù)氣體性質(zhì)分別集中在一個(gè)氣瓶間中與助燃?xì)怏w分開存貯。
3、再次是解決氣瓶壓力的問(wèn)題。含氫40%,其余是氮或氦的混合氣被用作氫火焰總烴檢測(cè)儀的燃料氣。每種氣體可以將多瓶氣體并聯(lián)然后通過(guò)一個(gè)出口統(tǒng)一減壓后運(yùn)送氣體至使用點(diǎn)。因?yàn)闅馄块g是相對(duì)獨(dú)立的,整個(gè)氣路系統(tǒng)壓力1大的地方也是氣瓶出口處,因此這種方式將氣瓶壓力可能發(fā)生的危險(xiǎn)縮小至氣瓶間內(nèi),可對(duì)人體及儀器的傷害可降到1低。
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高純供氣系統(tǒng)
集中供氣系統(tǒng)需要規(guī)劃設(shè)計(jì)一個(gè)獨(dú)立的氣瓶室,根據(jù)實(shí)驗(yàn)室的布局和用氣情況在實(shí)驗(yàn)室的每層或幾層設(shè)置一個(gè)氣瓶室,也可在實(shí)驗(yàn)室外部設(shè)計(jì)一個(gè)為整個(gè)實(shí)驗(yàn)室供氣的氣瓶室,鋼瓶?jī)?chǔ)存區(qū)應(yīng)合理布置,保持可燃性容器和助燃性容器間的安全間距。特種氣體鋼瓶在運(yùn)輸和儲(chǔ)存的注意事項(xiàng)由于特種氣體產(chǎn)品的潛在危險(xiǎn)性,如氧氣遇油脂著火,氣瓶倒下使閥門拆斷引起飛瓶,惰性氣體引起窒息等等。氣瓶室墻宜采用實(shí)體結(jié)構(gòu),門應(yīng)設(shè)計(jì)為防爆門,安裝防爆燈以及防爆風(fēng)機(jī),萬(wàn)一發(fā)生事故可減少實(shí)驗(yàn)室區(qū)域的破壞性。存放鋼瓶屋內(nèi)不宜吊頂。氣瓶室內(nèi)還應(yīng)設(shè)有氣體泄漏、低壓換氣報(bào)警設(shè)施,及排風(fēng)裝置,同時(shí)設(shè)計(jì)時(shí)還應(yīng)考慮防雷、防靜電、空調(diào)設(shè)備等設(shè)施。為了保證氣體純度和壓力的穩(wěn)定性,需采用多級(jí)減壓方式供氣,宜設(shè)置氣路吹掃、排空、雜質(zhì)過(guò)濾、水分和油汽凈化等裝置,有條件的可采用雙氣源自動(dòng)切換模式供氣。