不同的不銹鋼表面處理工藝，能夠讓同樣的材質凸顯不同的視覺效果及手感特征。從設計的角度出發(fā)，需要了解下面這七種不銹鋼的表面處理工藝。1.PVD工藝PVD(PhysicalVaporDepsition)---物理氣相沉積：指利用物理過程實現(xiàn)物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能（強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等）的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。PVD基本方法：真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍（空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍）。

PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類：PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色進行測量，使顏色得以量化，以確定鍍出的顏色是否滿足要求。PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學電鍍（水電鍍）的異同：PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；

PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類。真空蒸鍍在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。濺射鍍膜利用氣體放電產(chǎn)生氣體電離，其正離子在電場作用下高速轟擊陰極靶體，擊出陰極靶體原子或分子，飛向被鍍基體表面沉積成薄膜。離子鍍膜在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質離子化，在氣體離子或蒸發(fā)物質離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物質或其反應物蒸鍍在工件上。