真空電鍍加工鋁合金電鍍加工

      真空電鍍加工系統(tǒng)由機(jī)械泵、分散泵、油增壓泵、增擴(kuò)泵、羅茨泵、堝輪分子泵等及與它們相匹配的各種氣動、手動、電動閥門、管道等組成。依據(jù)工藝要求挑選鍍制方法，如電阻蒸騰，磁控源以靶材材質(zhì)及尺度多弧源，真空計量可挑選數(shù)字式智能真空計及其的計量規(guī)管，及其它計量儀器，如自動壓強控制儀等。膜厚測量可選用方塊電阻測量儀，透過率計等。

PVD技術(shù)出現(xiàn)于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點。在高速具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，人們在開發(fā)、高可靠性涂層設(shè)備的同時，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。

PVD鍍膜的具體原理是什么?

　　離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù)，其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離，在電場的作用下，使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

真空電鍍原理說明：

真空電鍍的鍍膜方式分為真空蒸鍍(PVD)與真空濺鍍(SPUTTER)二種：

(1) 真空蒸鍍(PVD)

此乃早期之真空電鍍模式，其原理乃利用鎢絲來當(dāng)電極，當(dāng)鎢絲被通以電流加熱至鋁金屬之熔點（700至 800℃）時，此時置放在鎢絲上之鋁金屬即被蒸發(fā)為鋁原子團(tuán)，此時鋁原子團(tuán)再一層一層表面之被鍍物，故此制程亦被稱為PVD，物理氣相沉積。