在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡單來說曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。前階段有個客戶涂上感光油墨曝光后，上面再噴上一層油漆，導致氫氧化na水溶液溶液無法很好的滲透到油墨與金屬標牌的連接處，從而沒辦法快速去墨，建議加高溫度，以及加長浸泡的時間之后也可以很好的去掉感光蝕刻油墨。

在了解曝光顯影在蝕刻加工中的作用前，我們要先了解一下什么是曝光顯影。簡單來說曝光顯影是蝕刻加工中確定需要被腐蝕和不被腐蝕部分的工藝，準確的曝光顯影才能保證產(chǎn)品的精度。

蝕刻、曝光和顯影是什么意思?

1、蝕刻：利用蝕刻液與銅層反應,蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路.

2、曝光：經(jīng)光源作用將原始底片上的圖像轉移到感光底板(即PCB)上.

3、顯影：通過堿液作用,將未發(fā)生光聚合反應之感光材料部分沖掉.

IMD模內(nèi)注塑工藝，這是從此物錄使用的一種國際流行的工藝，其實這種工藝很早就有了，故事就不再講了。但由于成本問題真正應用到產(chǎn)品設計領域并不久，IMD工藝采用模內(nèi)高溫注塑，一個手機殼成形需要出模、出片、印刷、蓋白、注塑、熱壓、質檢等多個流程，把畫面植入殼體中間層，永遠不會褪色變黃，殼體拋光，成像立體感強，高清，臟的時候一擦就干凈了，相對來說優(yōu)點還是很多的。


當需要較深的蝕刻要求時材料的因素并不重要（材質質量大差例外），同時為了生產(chǎn)效率的需要，要通過對蝕刻溶液濃度、配方組成的調整及蝕刻物理參數(shù)的調整來提高蝕刻速度，即便是這樣也不需要"越快越好的蝕刻速度。因為太快的速度會使溶液成分變化太快，會反過來影響到物理參數(shù)的控制難度，同時也會使被蝕刻的金屬表面溶解速度不能一致，使蝕刻后的表面平滑度降低。