曝光顯影直接決定蝕刻圖案的準(zhǔn)確性，因此在制作上，需要非常準(zhǔn)確和清晰。操作人員要規(guī)范作業(yè)，避免圖案模糊或者移位影響產(chǎn)品品質(zhì)。經(jīng)過(guò)不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，曝光就是光圈、快門和感光度ISO的組合。其中光圈和速度聯(lián)合決定進(jìn)光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影；正顯影中顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性是相反的，反轉(zhuǎn)顯影中感光鼓與色粉電荷極性是相同的。


主要應(yīng)用于電路板線路的蝕刻以及五金標(biāo)牌、表殼、不銹鋼板、鋁板等金屬材料的酸性和堿性腐蝕中。一般蝕刻液為氯化鐵或者氯化銅，感光蝕刻油墨印刷于金屬表面烘干或自然干燥后，然后曝光顯影，利用蝕刻液腐蝕掉未曝光的部分。曝光也叫感光，放在已經(jīng)噴了感光油的產(chǎn)品上面，主要的目的是通過(guò)曝光讓圖案在材料上對(duì)應(yīng)成型，感光(曝光)過(guò)程中要特別注意夾具一定要放好，不能歪斜，否則產(chǎn)品圖案就會(huì)出現(xiàn)歪斜現(xiàn)象，從而產(chǎn)生不良品，也要定期檢查，不能出現(xiàn)折疊現(xiàn)象，否則也會(huì)出現(xiàn)不良品。


感光(曝光)完成后就要進(jìn)行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過(guò)顯影藥將未曝光的地方?jīng)_走，經(jīng)過(guò)曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。一般都是采用氫氧化na水溶液，氫氧化na水溶液濃度大概是5%，溫度大約在50攝氏度，浸泡3-5分鐘，時(shí)間可根據(jù)具體情況加長(zhǎng)點(diǎn)。氫氧化na水溶液浸泡后，拿出板材，冷水沖洗，就可以很好地去掉感光蝕刻油墨了。

前階段有個(gè)客戶涂上感光油墨曝光后，上面再噴上一層油漆，導(dǎo)致氫氧化na水溶液溶液無(wú)法很好的滲透到油墨與金屬標(biāo)牌的連接處，從而沒(méi)辦法快速去墨，建議加高溫度，以及加長(zhǎng)浸泡的時(shí)間之后也可以很好的去掉感光蝕刻油墨。

圖形電鍍過(guò)程中，引起的滲鍍的原因分析如下：1、曝光要適度。這樣才能達(dá)到線條清晰平直，保證圖形電鍍的合格率及其基板的電性能和其它工藝要求。2、干膜盡可能平整且厚度均勻。要求干膜應(yīng)具有很好的柔韌性、良好的塑性、流動(dòng)性與粘結(jié)性以確保達(dá)到無(wú)間隙貼膜。