曝光顯影之怎樣提高精密五金蝕刻系數(shù)?精密五金蝕刻發(fā)作突沿。通常印制板在蝕刻液中的時(shí)間越長(zhǎng)，精密五金蝕刻越嚴(yán)重。精密五金蝕刻嚴(yán)重影響印制導(dǎo)線的精度，嚴(yán)重精密五金蝕刻將使制作精密導(dǎo)線成為不可能。當(dāng)精密五金蝕刻和突沿降低時(shí)，蝕刻系數(shù)就添加，高的蝕刻系數(shù)標(biāo)明有堅(jiān)持細(xì)導(dǎo)線的才干，使蝕刻后的導(dǎo)線靠近原圖標(biāo)準(zhǔn)。電鍍蝕刻抗蝕劑無(wú)論是錫-鉛合金，錫，錫-鎳合金或鎳，突沿過(guò)度都會(huì)構(gòu)成導(dǎo)線短路。因?yàn)橥谎睾?jiǎn)略開(kāi)裂下來(lái)，在導(dǎo)線的兩點(diǎn)之間構(gòu)成電的橋接。

目視定位適用于重氮照相底法。重氮底片呈棕色或橘紅色的半透明狀態(tài)，但不透紫外光，透過(guò)重氮圖像使底片的焊盤(pán)與印制電路板的孔重合對(duì)準(zhǔn)，然后貼上膠帶貼牢，即可進(jìn)行曝光。

固定銷釘定位固定銷釘分為固定照相底片和固定印制電路板兩套系統(tǒng)，通過(guò)調(diào)整兩銷釘?shù)奈恢?，?shí)現(xiàn)底片與印制電路板的重合對(duì)準(zhǔn)。

曝光后，聚合反應(yīng)還要持續(xù)一段時(shí)間，為保證工藝的穩(wěn)定性，曝光后不要立即揭去聚酯膜，以使聚合反應(yīng)持續(xù)進(jìn)行。待顯影前再揭去聚膜。

非曝光區(qū)的光刻膠由于在曝光時(shí)并未發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，在顯影時(shí)也就不會(huì)存在這樣的酸堿中和，因此非曝光區(qū)的光刻膠被保留下來(lái)。經(jīng)過(guò)曝光的正膠是逐漸溶解的，中和反應(yīng)只在光刻膠的表面進(jìn)行，因此正膠受顯影液的影響相對(duì)比較小。進(jìn)行顯影的方式有很多種，廣泛使用的方法是噴灑方法。這種顯影方式可以分為三個(gè)階段：硅片被置于旋轉(zhuǎn)臺(tái) 上，并且在硅片表面上噴灑顯影液；然后硅片將在靜止的狀態(tài)下進(jìn)行顯影；顯影完成后，需要經(jīng)過(guò)漂洗，之后再烘干。

光刻機(jī)目前一直處于壟斷地位，在光刻機(jī)領(lǐng)域，有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷蘭的公司。剛開(kāi)始光刻機(jī)領(lǐng)域比較厲害的兩個(gè)國(guó)家是荷蘭和日本，而在2017年之后，ASML聯(lián)合臺(tái)積電推出了光源浸沒(méi)式系統(tǒng)開(kāi)始，將日本企業(yè)甩開(kāi)距離，從此穩(wěn)坐頭把交椅的寶座。技術(shù)一直處于壟斷地位。

一臺(tái)好的光刻機(jī)需要各種的零件支持，而這些零件大部分都來(lái)自西方的國(guó)家。而這些基本上都是禁止對(duì)我們國(guó)家出口，因此我國(guó)光刻機(jī)技術(shù)受到限制。