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肇慶車燈保護(hù)膜鍍膜機(jī)廠家報(bào)價「至成真空科技」

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發(fā)布時間:2021-10-17 05:56  









真空鍍膜設(shè)備對底涂層需求及應(yīng)用


真空磁控濺射鍍膜機(jī)現(xiàn)已經(jīng)成為生活中不可或缺的一部分,為生活添加了一份光彩,真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個重要分支,它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā),理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有離子鍍、束流沉積鍍,蒸發(fā)鍍、濺射鍍、以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質(zhì)表面的物理、化學(xué)性能的話,這一技術(shù)又是真空表面處理技術(shù)中的重要組成部分

在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導(dǎo)體激光器,約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜。


真空卷繞鍍膜機(jī)


的卷繞系統(tǒng)采用四電機(jī)驅(qū)動,恒張力控制,可實(shí)現(xiàn)距離卷繞和接觸卷繞兩種卷繞方式。提供了多種不同的卷繞方式,以適用于所鍍制的薄膜種類和工藝要求。在卷繞系統(tǒng)中設(shè)置了適用于CPP、PET、OPP等多種塑料薄膜特殊的展平裝置,能達(dá)到無褶皺、無劃傷、無邊緣積聚的優(yōu)良蒸鍍和收卷質(zhì)量。強(qiáng)勁實(shí)用的抽真空系統(tǒng)相對獨(dú)立的卷繞室和蒸發(fā)室,每一個室都有一套獨(dú)立的真空泵組與其對應(yīng)。能在很短的時間內(nèi)達(dá)到鍍膜所需的工作真空度,使設(shè)備的生產(chǎn)率得到很大地提高。蒸發(fā)源系統(tǒng)通過嚴(yán)密的計(jì)算采取恰當(dāng)?shù)恼舭l(fā)距離和舟間距,采取交錯安裝的排布形式,使用兩端頂持的舟安裝方式保證了良好的蒸鍍均勻性的成膜質(zhì)量??梢允褂闷胀ㄕ舭l(fā)速率的陶瓷蒸發(fā)舟,也可以使用高蒸發(fā)率的蒸發(fā)舟。其功率可達(dá)14KVA,蒸發(fā)速率可達(dá)9克/分鐘。冷卻加熱系統(tǒng):蒸鍍輥配制有獨(dú)立的冷卻加熱系統(tǒng),采用特殊的油導(dǎo)熱介質(zhì),能有效的冷卻蒸鍍輥,防止薄膜熱損傷。等離子預(yù)處理裝置:在鍍前對薄膜表面進(jìn)行離子轟擊處理,除去薄膜表面吸附的水氣及雜質(zhì),提高附著力,改善鍍膜質(zhì)量。簡單便捷的控制系統(tǒng):便捷的全自動控制系統(tǒng)和友好的操作界面,可根據(jù)需要分別采用手動、半自動以及自動方式。


真空鍍膜機(jī)夏季使用及保養(yǎng)事項(xiàng)

真空鍍膜機(jī)夏季使用及保養(yǎng)事項(xiàng) 1、經(jīng)常檢查油質(zhì)情況,發(fā)現(xiàn)真空泵油乳化及變質(zhì)應(yīng)及時更換真空油,確保真空泵工作正常。 2、真空泵換真空油的期限,按實(shí)際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮,由用戶酌情決定。一般新真空泵,抽除清潔干燥的氣體時,建議在工作100小時左右換油一次。待油中看不到黑色金屬粉末后,以后可適當(dāng)延長更換真空油期限。 3、嚴(yán)禁換用其他種類的油。一定要用專業(yè)的真空油。經(jīng)常檢查油位位置,不符合規(guī)定時須調(diào)整使之符合要求。以旋片真空泵運(yùn)轉(zhuǎn)時,油位到油標(biāo)中心為準(zhǔn)。 4、一般情況下,真空泵工作2000小時后應(yīng)進(jìn)行檢修,檢查橡膠密封件老化程度,檢查排氣閥片是否開裂,清理沉淀在閥片及排氣閥座上的污物。清洗整個真空泵腔內(nèi)的零件,如轉(zhuǎn)子、旋片、彈簧等。一般用清洗,并烘干。對橡膠件類配件清洗后用干布擦干即可。清洗裝配時應(yīng)輕拿輕放,小心碰傷。


真空鍍膜設(shè)備鍍膜過程的均勻性到底多重要?

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過程的均勻性到底多重要? 厚度均勻性主要取決于: 1、基片材料與靶材的晶格匹配程度;2、基片表面溫度;3、蒸發(fā)功率,速率;4、真空度;5、鍍膜時間,厚度大小。組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性:1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發(fā)速率. 對于不同的濺射材料和基片,參數(shù)需要實(shí)驗(yàn)確定,是各不相同的,鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫,能否保證好的真空度,能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù),已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問題,但是基本用于實(shí)驗(yàn)研究,工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機(jī)主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。


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