真空鍍膜機(jī)為塑料件鍍膜時(shí)抽真空時(shí)間長的原因

1、真空室有漏氣現(xiàn)象：大家都知道，多弧離子鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長時(shí)間都不能抽得上來的；

2、即使真空室沒有漏氣，因?yàn)樗芰袭a(chǎn)品的放氣量大，所以抽真空，濺控濺射鍍膜機(jī)特別是高真空很難達(dá)到。而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。

手機(jī)納米液離子鍍膜的工作原理

離子鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空多弧離子鍍膜機(jī)、真空中頻磁控濺射鍍膜機(jī)、多功能中頻磁控濺射多弧復(fù)合離子鍍膜機(jī)、真空光學(xué)(電子束蒸發(fā))鍍膜機(jī)等系列真空鍍膜設(shè)備，主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

離子濺射鍍膜，多半是在反應(yīng)氣體存在下進(jìn)行的，化合物沉積膜的穩(wěn)定性和光學(xué)常數(shù)，依賴于氣體的類型和陰極材料。常用的反應(yīng)氣體為氧氣，常用的陰極材料有鐵、鎳、銅鉛等，有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬。反應(yīng)濺射形成的氧化物是屬于有吸收而折射率不是很高的鍍膜材料。

真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法

真空鍍膜設(shè)備離子鍍膜上的創(chuàng)新方法 真空鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜上的創(chuàng)新方法，所謂多弧離子鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于室內(nèi)，真空鍍膜機(jī)多弧離子鍍膜采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。 多弧離子鍍膜的方法，在條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn)，可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。