電鍍電鍍過程是將磁體接到直流電源陰極，浸入含有鍍層材料陽離子的溶液中，陽離子在電場作用下會遷移到陰極并轉(zhuǎn)化成金屬原子結(jié)晶到磁體表面。燒結(jié)釹鐵硼常用的有鍍鋅和鍍鎳，以及鎳銅鎳復(fù)合鍍。鋅在干燥空氣中比較穩(wěn)定，在潮濕空氣或含氧的水中則會生成碳酸鋅薄膜，可延緩鋅的腐蝕速度，但在酸堿鹽溶液、海洋性大氣、高溫高濕空氣中耐腐蝕性較差，鈍化處理可顯著提升鋅鍍層的耐蝕性。鎳容易與空氣中的氧形成極薄的鈍化膜，在常溫下對大氣、堿和一些酸有很好的耐腐蝕性，因此鍍鎳成為燒結(jié)釹鐵硼zui普遍的電鍍方式。

這在現(xiàn)代鏡頭上非常重要，玻璃表面的反光下降，這樣在有十幾片鏡片的變焦鏡頭上的玻璃表面的反光就會少很多，這樣通過鏡頭的光就不會明顯減少。而鍍膜后反光降低的另一個好處是不容易產(chǎn)生逆光光霧。對鏡頭在逆光條件下的性能有明顯提高早期的鏡頭有沒有鍍膜的，一些簡單的鏡頭也有單層簡單鍍膜的?，F(xiàn)代鏡頭都是多層鍍膜的。但是鍍膜不能答到100%的通過率，仍然會有一部分光反射，所以鏡片會有各種顏色，在一支鏡頭上的鏡片不會全反射一種色光，所以你看到的鏡頭經(jīng)常會反射各種各樣的顏色。

PVD(物理氣相沉積)技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)。近十多年來，真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為了當(dāng)代zui先進(jìn)的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過“蒸發(fā)或濺射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。

熱鍍鋅鍍層的形成機(jī)理

熱浸鍍鋅是一個冶金反應(yīng)過程。從微觀角度看，熱浸鍍鋅過程是兩個動態(tài)平衡：熱平衡和鋅鐵交換平衡。當(dāng)把鋼鐵工件浸入450℃左右的熔融鋅液時，常溫下的工件吸收鋅液熱量，達(dá)到200℃以上時，鋅和鐵的相互作用逐漸明顯，鋅滲入鐵工件表面。

隨著工件溫度逐漸接近鋅液溫度，工件表面形成含有不同鋅鐵比例的合金層，構(gòu)成鋅鍍層的分層結(jié)構(gòu)，隨著時間延長，鍍層中不同的合金層呈現(xiàn)不同的成長速率。從宏觀角度看，上述過程表現(xiàn)為工件浸入鋅液，鋅液面出現(xiàn)沸騰，當(dāng)鋅鐵反應(yīng)逐漸平衡，鋅液面逐漸平靜。工件被提出鋅液面，工件溫度逐漸降低至200℃以下時，鋅鐵反應(yīng)停止，熱鍍鋅鍍層形成，厚度確定。