ICP光譜儀購買時(shí)用注意什么？

ICP光譜儀購買時(shí)用注意什么？我們接下來就來簡(jiǎn)單的了解一下。

一、穩(wěn)定性,分析儀器的就是穩(wěn)定性,ICP在每次分析前都要進(jìn)標(biāo)樣,所以檢測(cè)結(jié)果一般與真值偏差都不打,關(guān)鍵是同類樣品是否在每次分析出來之后結(jié)果是否一致,如果忽高忽低你知道那個(gè)樣品是合格的

二、分析速度,如果是全譜的機(jī)器,一般72個(gè)元素/分鐘,如果是掃描型的,速度要慢.現(xiàn)在除了一些特殊行業(yè)還在用掃描型的,其他的都是全譜了.不是說掃描型不好,只是技術(shù)比較陳舊,容易被淘汰.

三、波長范圍,是否能覆蓋你所要檢測(cè)所有元素的譜線范圍

四、光學(xué)分辨率（200nm處）,理論上來說分辨率越高越好,當(dāng)然還看你的樣品情況

五、故障率,這個(gè)不用多說了,天天壞那就沒法用了

六、售后服務(wù),沒有永遠(yuǎn)不壞的機(jī)器,售后服務(wù)的好壞也很重要。

ICP光源觀察方式

水平觀察：又稱為軸向觀察或端視觀測(cè)，是采用水平放置的ICP光譜儀炬管，“火焰”氣流方向與采光光路方向呈水平重合;可使整個(gè)火焰?zhèn)€個(gè)部分的光都全部通過狹縫。水平觀察方式的優(yōu)點(diǎn)是：由于整個(gè)“火焰”各個(gè)部分的光都可以被采集導(dǎo)致靈敏度高，對(duì)簡(jiǎn)單樣品有較好的檢出限;其缺點(diǎn)：基體效應(yīng)和電離干擾大，線性范圍小，炬管溶液積炭和積鹽而沾污，需要及時(shí)清洗和維護(hù)，RF功率設(shè)置不能一般不超過1350W;使用于光譜儀水質(zhì)分析中。ICP光譜儀的校正ICP光譜儀校正的目的是消除環(huán)境溫度造成的光學(xué)系統(tǒng)漂移與機(jī)械震動(dòng)造成的機(jī)械位移。

ICP光譜儀的優(yōu)點(diǎn)

1. 多元素同時(shí)檢出能力。

可同時(shí)檢測(cè)一個(gè)樣品中的多種元素。一個(gè)樣品一經(jīng)激發(fā)，樣品中各元素都各自發(fā)射出其特征譜線，可以進(jìn)行分別檢測(cè)而同時(shí)測(cè)定多種元素。

2. 分析速度快。 　試樣多數(shù)不需經(jīng)過化學(xué)處理就可分析，且固體、液體試樣均可直接分析，同時(shí)還可多元素同時(shí)測(cè)定，若用光電直讀光譜儀，則可在幾分鐘內(nèi)同時(shí)作幾十個(gè)元素的定量測(cè)定。

3. 選擇性好。 　由于光譜的特征性強(qiáng)，所以對(duì)于一些化學(xué)性質(zhì)極相似的元素的分析具有特別重要的意義。如鈮和鉭、銑和鉿、十幾種稀土元素的分析用其他方法都很困難，而對(duì)aes來說是毫無困難之舉。

ICP光譜儀是什么構(gòu)成的？

一臺(tái)典型的ICP光譜儀主要由一個(gè)光學(xué)平臺(tái)和一個(gè)檢測(cè)系統(tǒng)組成。包括以下幾個(gè)主要部分：

1. 入射狹縫: 在入射光的照射下形成光譜儀成像系統(tǒng)的物點(diǎn)。

2. 準(zhǔn)直元件: 使狹縫發(fā)出的光線變?yōu)槠叫泄狻Ｔ摐?zhǔn)直元件可以是一獨(dú)立的透鏡、反射鏡、或直接集成在色散元件上，如凹面光柵光譜儀中的凹面光柵。

3. 色散元件: 通常采用光柵，使光信號(hào)在空間上按波長分散成為多條光束。

4. 聚焦元件: 聚焦色散后的光束，使其在焦平面上形成一系列入射狹縫的像，其中每一像點(diǎn)對(duì)應(yīng)于一特定波長。

5. 探測(cè)器陣列：放置于焦平面，用于測(cè)量各波長像點(diǎn)的光強(qiáng)度。該探測(cè)器陣列可以是CCD陣列或其它種類的光探測(cè)器陣列。