蝕刻機可以分為化學蝕刻機及電解蝕刻機兩類。在化學蝕刻中是使用化學溶液,經由化學反應以達到蝕刻的目的,化學蝕刻機是將材料用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。
1、蝕刻機噴頭的介紹 蝕刻機噴頭是蝕刻機噴淋裝置中的一個部件,藥液噴淋的形狀是根據蝕刻機噴頭的種類來決定的,不同的蝕刻機噴頭所起到的作用是不一樣的。蝕刻機噴頭的作用及維護 2、蝕刻機噴頭的作用 主要作用是把蝕刻液均勻的噴淋到工件上,蝕刻機噴頭根據蝕刻機每道工序所對應的要求所選擇不同的種類。比如:常規(guī)情況下蝕刻段選擇用扇形,因為蝕刻段對壓力的要求比較高,而我們扇形噴嘴噴淋出的液體壓力會相對較高;顯影段和退膜段我們就采用錐形噴嘴,因為這兩處需要覆蓋面廣,而錐形噴嘴剛好就有這種特性。 3、蝕刻機噴頭的維護 蝕刻液是通過蝕刻機噴頭頂端的小孔把給噴淋出來,這個小孔的直徑是很小的,所以是很容易堵塞的,而我們的蝕刻液沉淀物和腐蝕下來的殘渣都是顆粒狀的,使用的時間過長了這些固體顆粒物的形成就會堵塞噴頭,所以我們需要定期的清理蝕刻機的噴頭才能達到良好的腐蝕效果。

離子植入:其是用來控制半導體中雜質量的關鍵程序,對半導體表面附近區(qū)域進行摻雜技術。優(yōu)點在于雜質量的控制,雜質分布的再重整,及低溫下操作。 離子植入機主要的供廠商為AMAT,中國部份只有中電科電子裝備公司能供應。市場預計今明兩年中國離子植入機需求可達5億美元與7億美元。 沉積:PVD沉積為一種物理制程,此技術一般使用等惰性氣體,藉由在高真空中將離子以加速撞擊濺鍍靶材后,將靶材原子一個個濺擊出來,使被濺擊出來的材質沉積在晶圓表面。 薄膜沉積設備主要的供應商包含應用材料、Vaportech、LamResearch、ASM、Tokki等。而中國相關設備制造廠有北方華創(chuàng)、沈陽拓荊等。北方華創(chuàng)是中國薄膜沉積設備龍頭,目前技術已達到14nm。市場預計今明兩年中國薄膜沉積設備需求可達15億美元與20億美元。 測試:在晶圓完成制造之前,會有一道晶圓中測工序。在測試過程中,會檢測每一個芯片的電路功能。

在古時從事腐蝕加工的技師,不像我們今天這樣有很多的方法將圖文轉移到需要腐蝕的金屬表面。早的方法可能是采用一些石蠟、松香、瀝青等,也可能采用、桐油等天然有機材料。據記載到了16世紀時專門從事腐蝕加工的工匠們,要耐心地耗時數周甚至數月的時間,將這些材料按某種比例搗碎,再用液體瀝青或桐油調合,也可能是直接加溫熔化而制成保護涂料。然后用刷子仔細地把保護涂料涂抹在需要腐蝕的整個零件表面,經午燥或冷卻硬化后;再用針或之類的硬物在保護層上把圖案制作出來,接下來就是用原始的方法進行腐蝕加工。我們可以想象,他們是怎樣地在腐蝕部位周圍用石蠟等天然常溫固態(tài)樹脂筑起屏障,然后將酸液慢慢地加到需要腐蝕的部位上。我們可以估計到這些專門從事腐蝕的工匠們會遇到的各種困難,比如:防蝕層的粘著力不夠,在還沒有達到腐蝕深度要求時,防蝕層就可能全部或部分脫落,這時就需要用手工來拋光以去掉所有的腐蝕斑痕;用石蠟等天然樹脂所筑起的防蝕墻并不能很好地防止酸的外溢,使零件的外緣或其他部位遭到腐蝕,而這些零件在進行腐蝕之前就已經加工完成,同時已具有昂貴的價值,并由此而承擔極大的風險。隨著其他輔助技術和有機材料的發(fā)展,可以用非金屬材料制作成大的容器,同時也逐漸掌握了使用防蝕涂料對零件其他部位的保護,這時就可以直接將零件浸人一足可。

以不銹鋼US304的腐蝕加工為主
蝕刻機里添加化學蝕刻液為:三氯化鐵
化學式:FeCl3=FeCl3·6H2O
一.蝕刻液條件
波美度: 38°—42°
藥液溫度: 45°—50°
PH值測量區(qū)間: 1PH-3PH
氧化劑 FeCl3
二.新反應過程
三氯化鐵蝕刻液對不銹鋼的蝕刻是一個“氧化---還原”過程:
1.氧化反應:2FeCl3 Fe=3FeCl2
三氯化鐵 不銹鋼 水=氯化亞鐵 板材蝕刻成品 水 不銹鋼雜質