在芯片制造領(lǐng)域，光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個形象的比喻，光刻機是芯片制造的魂，蝕刻機是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，這兩個東西都必須。

而在光刻機方面，與世界的7nm制程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭，但ASML終究是背后霸主，贏家，因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產(chǎn)光刻機還在路上，目前我國已經(jīng)能夠使用365納米波長的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片，這在全世界尚無先例，它也被稱為世界上首臺分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產(chǎn)光刻機可以使用低成本光源，實現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

 蝕刻的類型 要留意的是，蝕刻時的木板上邊有雙層銅。在表層蝕刻工藝中只是有一層銅是必須被如數(shù)蝕刻掉的，別的的將組成終歸所要求的電源電路。這類種類的圖型電鍍工藝,其特點是鍍銅層僅存有于鉛錫抗蝕層的下邊。 別的一種工藝方式 是全部木板上面鍍銅，光感應(yīng)膜之外的一部分只是是錫或鉛錫抗蝕層。這類工藝稱之為“全板鍍銅工藝“。

電解蝕刻實際就是電解某種金屬材料，如電解銅、鐵等。具體做法是將要蝕刻的制件做陽極，用耐蝕金屬材料做輔助陰極。將陽極連接電源的正極，輔助陰極連接電源的負極。如圖6—7所示。

 電解蝕刻工作原理示意圖

當電流通過電極和電解質(zhì)溶液時，在電極的表面及電解質(zhì)溶液中發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)，利用這種反應(yīng)將要溶解去除的部分金屬去除，達到金屬腐蝕的目的。根據(jù)法拉第定律，電流的通過量與金屬的溶解量成正比，也就是被蝕刻的金屬越多，消耗的電量就越大。根據(jù)電化學(xué)原理，電解蝕刻裝置的電源接通后，在陽極上發(fā)生氧化反應(yīng)、在輔助陰極上發(fā)生還原反應(yīng)。陽極反應(yīng)的結(jié)果是蝕刻部位的金屬被氧化變成水合離子或絡(luò)合離子進入電解質(zhì)溶液

（一）

表面保護

1、涂感光油墨

使用專業(yè)涂布機，對銅材表面涂上一層薄厚均勻適中，色澤亮麗的感光油墨抗蝕刻油墨，油墨選用的是日本進口精工油墨，有耐腐蝕、抗酸性強、曝光精準等眾多優(yōu)點。

2、烘干

將涂好感光油墨的銅材放于烘箱里，溫度設(shè)置在88度，烘干時間為15，烘干后置于空調(diào)房冷卻。

(二)

曝光

采用臺灣進口曝光機曝光，該曝光機時間控制準確，曝光強度，確保曝光后的銅材空位無錯位，邊緣光滑，曝光后的銅材用肉眼看，沒有任何變化。

(三)

顯影

采用專業(yè)的6米顯影機對曝光后的銅材顯影，顯影液溫度控制在30度左右，加入碳酸鈉，按20：1比例配制溶液，攪拌均勻。

把曝光好的銅材放入弱堿性的碳酸鈉溶液中，沒有被曝光部分的油墨，因不耐弱堿就會起化學(xué)反應(yīng)而脫落，經(jīng)由后續(xù)的沖洗、烘干，圖案便清晰地顯現(xiàn)在銅材上！